Nghiên cứu ứng dụng công nghệ phun phủ bằng phương pháp thực nghiệm hoàng văn gợt, đào duy trung pdf

Đ

TS. Hoàng Văn Gợt (Chủ biên)

671.734

TS. Đào Duy Trung

H407G

m

mm
HtìPTH

NHÀ XUẤT BẢN KHOA HỌC VÀ KỸ THUẬT


HOÀNG VĂN GƠT - ĐÀO DUY TRUNG

NHÀ XUẤT BẢN KHOA HỌC VÀ KỸ THUẬT

HÀ NÔI -2012


MỤC LỤC
Trang
MỞ ĐÀU.........................................................................................................................7
Chương 1
TỔNG QUAN VỀ CÔNG NGHỆ PHUN PHỦ
1.1.

BẢN CHÁT, ĐẶC ĐIẾM VÀ PHẠM VI ỦNG DỤNG CỦA CÔNG NGHỆ
PHUN PHỦ KIM LOẠI....................................................................................... 9

1.2. CÁC PHƯƠNG PHÁP PHUN PHỦ KIM LOẠI BẰNG NHIỆT K H Í........19
Chương 2
VẬT LIỆU DÙNG CHO PHUN PHỦ BẢNG NHIỆT KHÍ
2.1. VẬT LIỆU PHỦ DẠNG D Â Y ...........................................................................34
2.2. VẬT LIỆU PHỤ DẠNG THANH..................................................................... 36
2.3. VẬT LIỆU PHỦ DẠNG BỘT............................................................................36
Chương 3
THIẾT BỊ PHUN PHỦ KIM LOẠI BẰNG NHIỆT KHÍ
3.1. PHÂN LOẠI THIẾT B Ị...................................................................................... 38
3.2. THIẾT BỊ PHUN PHỦ BẰNG KHÍ CHÁY ÔXY-AXÊTYLEN.................. 39
3.3. ĐÀU PH U N ......................................................................................................... 40
Chương 4
ẢNH HƯỞNG CỦA CÁC YẾU TỐ CÔNG NGHỆ ĐẾN
Đ ộ BÈN BÁM DÍNH CỦA LỚP PHUN PHỦ KIM LOẠI
4.1. PHÂN LOẠI CÁC YÉU TỐ ẢNH HƯỞNG ĐẾN CHẤT LƯỢNG
LỚP P H Ủ ..............................................................................................................41
4.2. ÁNH HƯỞNG CỦA CÁC YẾU T ổ CÔNG NGHỆ ĐẾN
Đ ộ BỀN BÁM DÍNH......................................................................................... 43
4.3. ẢNH HƯỞNG CỦA DÒNG HÔ QUANG ĐIỆN VÀ DÒNG
VẬT LIỆU PHỦ...................................................................................................46

3


4.4. ẢNH HƯỞNG CỦA VỊ TRÍ TƯƠNG QUAN ĐÀU PHUN VÀ
BỀ MẶT CHI TIẾT P H Ủ ................................................................ .................. 47

4.5. ẢNH HƯỞNG CỦA PHƯƠNG PHÁP CHUÁN BỊ BÈ M Ặ T.......................50
4.6. ẢNH HƯỞNG CỦA ÚNG SUẤT D ư TRONG LÓP PHỦ............................ 51
4.7. ẢNH HƯỞNG CỦA CÔNG NGHỆ XỬ LÝ NHIỆT SAU PHUN PHỦ..... 51
Chương 5
CÔNG N G HỆ CHUẨN BỊ BÈ MẶT KIM LOẠI NÈN TRƯ Ớ C PHUN P H Ủ ...
5.1. MỤC ĐÍCH CỦA CÔNG NGHỆ CHUẨN BỊ BỀ M Ặ T.................................55
5.2. KHÁI NIỆM VỀ CHẮT BẨN BỀ M ẶT........................................................... 55
5.3. CÔNG NGHỆ CHUẨN BỊ BÈ M Ặ T...............................................................56
5.4. PHƯƠNG PHÁP LÀM SẠCH BỀ M Ặ T........................................................ 56
5.5. TẠO NHÁM BỀ MẶT TRƯỚC KHI PHUN PHỦ.......................................... 57
5.6. MỘT SỐ PHƯƠNG PHÁP CHUẨN BỊ TẠO NHÁM BÊ M Ặ T .................. 59
Chương 6
M Ộ T SỐ PHƯƠNG PHÁP ĐÁNH GIÁ
CHÁT LƯỢNG LỚP PHỦ KIM LOẠI
6.1. TÍNH CHÁT C ơ HỌC CỦA LÓP PHỦ KIM LO Ạ I....................................... 65
6.2. TÍNH CHẤT CHỐNG MÀI MÒN CỦA LỚP PHỦ KIM LO Ạ I................... 65
6.3. KHẢ NĂNG CHỐNG GỈ CỦA LỚP PHỦ KIM LO Ạ I..................................65
6.4. KIÊM TRA ĐỘ BỀN KÉO................................................................................. 65
6.5. KIÊM TRA ĐỘ BỀN BÁM TRƯỢT.................................................................66
6.6. KIÊM TRA ĐỘ BỀN BÁM DÍNH.....................................................................66
6.7. KIẾM TRA Đ ộ BỀN U Ố N ................................................................................ 67
6.8. KIÊM TRA CHẤT LƯỢNG LÓP PHỦ BẰNG TÌNH TRẠNG
VẾT PHÁ H Ủ Y ..................................................................... .............................68
6.9. KIẾM TRA ĐỘ CÚNG CỦA LỚP PHỦ KIM LO Ạ I......................................69
6.10. KIẾM TRA ÚNG SUẤT DƯ CỦA LÓP PHỦ KIM L O Ạ I............................ 69
6.11. KIẾM TRA Đ ộ XỐP LÓP PH Ủ .......................................................................70
6.12. KIÊM TRA CHẤT LƯỢNG LÓP PHỦ BẰNG PHƯƠNG PHÁP
KIM TƯƠNG HỌC
......................................................................................72
6.13. KIÊM TRA KHẢ NĂNG CHỊU MÀI MÒN CỦA LỚP PHỦ

BẰNG PHƯƠNG PHÁP c ơ HỌC....................................................................72

4


6.14. KIẾM I RA KHẢ NĂNG CHỊU NHIỆT CỬA LÓP PHỦ............................ 76
16.15. KIÊM TRA TỈNH CHỊU ẢN MÒN CỦA LỚP PHỦ KIM LO Ạ I.............. 77
Chương 7
Đ ộ BÈN BÁM DÍNH VÀ CÁC YẾU TÓ ẢNH HƯỞNG
TỚI Đ ộ BÈN BÁM DÍNH
7.1. Lực BÁM DÍNH CỦA HẠT KIM LOẠI LÒNG LÊN BỀ MẶT
CÁC CHÁT R Ắ N .................................................................................................78
7.2

Lực VANDERVAN........................................................................................... 80

7.3. L ự c LIÊN KẾT DO ẢNH HƯỞNG CỦA LỚP ĐIỆN TÍCH KÉP............... 81
7.4. LIÊN KẾT KIM LOẠI......................................................................................... 82
7.5. NHŨNG NHÂN TÓ ẢNH HƯỞNG ĐẾN ĐỘ BÁM D ÍN H .......................... 83
7.6. SỤ' ẢNH HƯỞNG ĐỔNG THỜI CỦA NHIỀU YÊU TỐ CÔNG NGHỆ
TỚI Đ ộ BỀN BÁM D ÍN H ................................................................................. 92
7.7. ẢNH HƯỞNG CỦA x ù ' LÝ NHIỆT SAU PHUN ĐÉN CHÁT LƯỢNG
LỚP P H Ủ ...............................................................................................................98
Chương 8
THIÉT BỊ VÀ PHƯONG PHÁP KIẾM TRA
CHAT LƯỌNG LỚP PHUN PHỦ
8.1. THIẾT BỊ THÍ NGHIỆM PHUN PHỦ BẰNG ÔXY-AXÊTYLEN............ 104
8.2. PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH ĐỘ BỀN KÉO CỦA LỚP PHỦ.................... 108
8.3. PHU ONG PHÁP XÁC ĐỊNH ĐỘ BÈN TRƯỢT CỦA LỚP P H Ủ ..............109
8.4. PHƯƠNG PHÁP XÁC ĐỊNH ĐỘ BỀN BÁM DÍNH PHÁP CỦA LỚP PHỦ 1 11

8.5. PHƯƠNG PHÁP NGHIÊN c ử u CHÁT LƯỢNG LỚP PHỦ BẰNG KIM
TƯƠNG H Ọ C ....................................................
112
Chương 9
NGHIÊN CỨU THỰC NGHIỆM ẢNH HƯỎNG CỦA MỘT SỐ YẾU TÓ
CÔNG NGHỆ ĐÉN Đ ộ BÁM DÍNH CỦA LỚP PHỦ VÀ ỨNG DỤNG
9.1. QUY TRÌNH CÔNG NGHỆ PHUN PHỦ........................................................113
9.2. MÔ HÌNH TOÁN HỌC QUAN HỆ GIỮA ĐỘ BỀN KÉO CỦA
LỚP PHÚ VÀ BA THÔNG s ố : KHOẢNG CÁCH PHUN,
ÁP LỤC KHÍ THỐI VÀ ÁP Lực KHÍ Ô X Y ................................................ 117

5


9.3. MÔ HÌNH TOÁN HỌC ỌUAN HỆ GIỮA ĐỘ BỀN TRƯỢT CỦA
LỚP PHỦ VÀ BA THÔNG SỐ: KHOẢNG CÁCH PHUN, ÁP L ự c
KHÍ THỔI VÀ ÁP Lực KHÍ Ô X Y ................................................................ 126
9.4. MÔ HÌNH TOÁN HỌC QUAN HỆ GIŨ A ĐỘ BỀN BÁM DÍNH PHÁP
CỦA LỚP PHỦ VỚI BA THÔNG SỐ: KHOẢNG CÁCH PHUN, ÁP LỤC
KHÍ THÔI VÀ ÁP Lực KHÍ Ô X Y ................................................................... 133
Chương 10
XỬ LÝ NHIỆT ĐÊ CẢI THIỆN LỚP PHỦ
10.1. CHỌN PHUÖNG PHÁP x ử LÝ N H IỆ T ........................................................141
10.2. ĐIỀU KIỆN THÍ NGHIỆM ................................................................................141
10.3. MÔ TẢ THÍ N G H IỆM .....................

142

10.4. ỦNG DỤNG KẾT QUẢ NGHIÊN cửu PHỤC HÓI TRỤC
TỪ THÉP C45...................................................................................................... 153

TÀI LIỆU THAM KHẢO............................................................................................ 157

6


MỞ ĐẦU
Trong những năm gần
mạnh mẽ, trong
của
nó.

đócách mạng khoa

đây,khoa học công nghệ
thế
công nghệ
đạt đến đinh

Phun phù kim
loại
cũng
là lĩnhvực khoa học
n
với các phương pháp công nghệ khác. Năm ¡912 ý tường phun phu kim
mới được một kỹ sư ngiíời Thụy Sĩ tên là Schoop thực hiện
sau đỏ được
ứng dụng ngay vào mục đích trang trí. Đến Chiến tranh thế
thứ
phun phủ kim loại đã được ứng dụng trong một quy mô rộng hầu hết châu
Âu. Phương pháp này đã

trởthành một phương pháp công
công dụng
và cỏnhiều ưu
việttrong
lĩnhvực chống
tiết kiệm kim loại
quý...

Đen những năm 1970, 1980 phun kim
đã
thành một
vực
khoa học công nghệ
riêngđược
biêuhiện giông nh
nghệ xử lý bề
mặt,mặt khác
nó
cũnggi
nghệ
chếtạo trong
sảnxuất. Những năm 1990 khoa học công n
đến đinh
cao
củakhoa học ứng dụng.
Đêđánh
giá sự phát
có thểdựa trên
cơ sở phát
phạm

viứng dụng trong các

triênmạnh mẽ của cóng nghệ phun phu
triến
về
lĩnhvực

Hiện nay
trênthế giới, nhiều
nướct
về công nghệ phun phủ kim
loạiđều
cúc hãng nghiê
xuất và ứng dụng các
thiết
bịphun
Castolim (Thụy
Sĩ),MeICO Plasmaday, Avko (Mỹ), Nobel Brocl
(Pháp),
EciaGhiken (Nhật), Arcrosse (Bi),
(Thụy

ơ Việt Nam khoa học công nghệ phun phù kim
còn đang trong giai
đoạn nghiên
cứuứng dụng các thành quà của thế giới. Các nhà khoa học đ
1


quan

tâmđến công nghệ phù kim
số vật
liệuphù như nhôm, kẽm phục vụ cho
dạng kết cẩu. Hiện nay đã
nghiên cứu ứng dụng phun phủ kim
đại
học,...

loạihước đầu
chong phăm
cỏmột

để
cấp
locủa một s

Việc nghiên cứu, xem xét một
cáchđầy đủ ánh
công nghệ như: khoảng cách phun, áp
khí
ôxy, vận
dòng hạt kim loại, cỡ
hạt,chếđộ cấp vật liệu và xử lý
đến đ ộ bền bám dính của lớp phủ kim loại từ một hợp
CƯ
kim
loạinền bằng phương pháp nhiệt khí để nâng
và kha
năng ứng dụng tại nước
ta là điều

rấttrong
đ
phủ là một chỉ
tiêumang tỉnh
chấtquyế
Độ bám dính phụ thuộc vào
rấtnhiều yếu tổ
phun, áp lực không khí
thổi,áp
lực
Trước nhu cầu đòi hỏi cấp bách phát
công nghệ phun
kim
ở nước ta, cuốn sách "Nghiên cứu ứng dụng công nghệ phun phủ bằng
phương pháp thực nghiệm" sẽ giúp ích cho
trong
trường
đạihục và
sauđại học cũng như
ứng dụng vào
sản xuất và phục
hồi
chitiết máy.
Tác

giả

xinchân thành cám ơn

bề mặt

- Viện Nghiên cứu
Cơkhí, Trường đại
PGS. Hoàng Tùng cùng các
Giáosư.
các nhà kh
kiện đê
tác
giảhoàn thành
các thỉ
nghiệơn
và Kỹ thuật đã
giúptác già hoàn thành bán
Nhóm tác giã

8


Chưong 1
TỒNG QUAN VÈ CỒNG NGHỆ PHUN PHỦ
1.1. BẢN CHÁT, ĐẶC ĐIẾM VÀ PHẠM VI ỨNG DỤNG CỦA CÔNG
NGHỆ PHUN PHỦ KIM LOẠI

Phun kim loại bằng nhiệt khí hoặc là Schoop (theo tên một kỹ sư cơ khí
người Thụy Sĩ là u. M. Schoop. ông đã tìm ra phương pháp này năm 1992)
có nguyên lý như sau: kim loại lỏng được dòng khí nén thôi làm phân tán
thành các hạt nhỏ, bay va đập bám lên bề mặt vật đã được chuẩn bị sạch,
như vậy sẽ tạo ra lớp kim loại phủ dày, trong đó có các phần tử kim loại đè
lên nhau theo từng lớp.
Phun kim loại có thê phủ được các kim loại nguvên chất, các hợp kim
của chúng hoặc vật liệu phi kim lên mặt kim loại hoặc bề mặt cứng khác

như gỗ, giấy, vải, sứ,... Bang phun kim loại cũng có thể tạo ra những lớp
dẫn điện trên vật không dẫn diện, tạo các lớp chịu nhiệt,... Những công dụng
này rất có ý nghĩa trong các lĩnh vực kỹ thuật.
Trên hình 1.1 là sơ đồ nguyên lý làm việc của đầu phun kim loại dây
(đốt chảy kim loại bằng ngọn lửa khí cháy).

Hình

1.1.Sơ đồ nguyên lý đàu phun bằng khí cháy

9


Nguyên lý theo hình 1.1: Kim loại được đưa vào đầu phun dưới dạng
dây có đường kính khoảng 1 , 2 - 3 mm. Các ống dẫn khí ôxy, axêtylen và
không khí nén có áp suất được đưa tới đầu phun. Hỗn hợp khí ôxy và
axêtylen cháy cho ngọn lửa như ngọn lửa hàn khí. Dưới tác dụng của ngọn
lửa đầu dây bị đốt nóng chảy, đồng thời không khí nén thối giọt kim loại
lỏng làm bắn ra những hạt kim loại nhỏ bay theo dòng khí nén với tốc độ
cao (khoảng 100 - 200 m/s) đập lên bề mặt vật đắp. Ở đầu sự dịch chuyển
của dây được thực hiện bằng cơ cấu dịch chuyển cơ khí. Lớp kim loại phủ
lên bề mặt vật sẽ có độ cứng lớn hơn kim loại dây và có sức bền kéo không
lớn lắm. Sức bền liên kết với vật liệu cơ sở cũng nhỏ. Nhưng tính chất của
lớp phủ sẽ có nhiều tác dụng khác như tính chịu mài mòn trong ma sát ướt,
có khả năng giữ dầu. Để nâng cao độ bám của lóp phủ, bề mặt cơ sở phải
hoàn toàn sạch và được chuẩn bị trước bàng phương pháp thích họp như gia
công cơ khí, phun bi, gại điện,... Sau khi làm sạch và tạo nhấp nhô, tốt nhất
là tiến hành phun ngay và không chậm hơn 2 giờ, nếu đế lâu bề mặt làm
sạch lại bị ôxy hoá bởi không khí.
Kim loại hoặc hợp kim trong trường họp không thể tạo được dưới dạng

dây thì có thế đưa vào đầu phun dưới dạng bột (gọi là đầu phun bột kim loại).
Bộ truyền

Hình

S ơ đồ nguyên iý làm việc của đầu phun bằng hồ quang điện
.2
1

Nhiệt dùng đốt cháy kim loại có thể thu được bằng ngọn lửa ôxy-axêtylen
hoặc bằng hồ quang điện. Hình 1.2 là đầu phun sử dụng hồ quang điện.
Bằng đầu phun này có thể phun các kim loại có điểm nóng chảy cao.

10


Để gây cháy hồ quang người ta dùng nguồn điện bình thường như đối
với hàn điện. Kim loại phun bằng đầu phun khí và đầu phun hồ quang
không nhất thiết phải có tính chất chung.
Ví dụ: khả năng chống gỉ của lớp nhôm sẽ tốt hon khi được phun bằng
phương pháp hồ quang. Lớp phù bàng kẽm hoặc nhôm ở đây dùng để chống
gỉ cho những kết cấu thép dẫn điện, cầu, ống, tàu thuỷ,...
Mặt khác khả năng sử dụng phun kim loại không bị hạn chế bởi độ lớn,
nhỏ của vật phủ vì thiết bị phun kim loại rất dễ dàng di động và có thể xách
tay. Phun kim loại rất thích hợp cho việc phục hồi các chi tiết bị mòn như:
trục khuỷu, cổ trục lắp bi, chốt,... và sửa chừa các khuyết tật của vật đúc.
Trong sửa chữa, phục hồi các chi tiết người ta thường phủ các lóp có
khả năng chống mài mòn như thép (thép không gỉ), đồng, đồng thau, nhôm,
họp kim của niken,... với các chiều dày khác nhau lên bề mặt chi tiết.
Ngày nay người ta còn dùng các đầu phun với ngọn lửa plasma để phun

các kim loại có điểm nóng chảy cao như: voníram, môlipđen, crôm,...
Phương pháp này rất có ý nghĩa trong việc phủ các lớp trong ngành kỹ thuật
tên lừa, kỹ thuật điện (phủ vật liệu không dẫn điện) và trong gia công các cơ
cấu chịu nhiệt độ cao. Phương pháp này có thể tạo ra các lóp phủ mỏng và
đồng đều. Trong kỹ thuật tên lửa, các chi tiết của các tên lửa đạn đạo hoặc
các con tàu vũ trụ thường được xử lý bàng phun kim loại với nhiệt độ tức
thời khi phủ đạt đến 2500°c.
Phun kim loại hiện nay dùng cho các mục đích sau:
- Phục hồi các chi tiết máy mòn;
- Sửa chữa các khuyết tật của vật đúc;
- Sửa chữa các khuyết tật xuất hiện khi gia công cơ khí;
- Bảo vệ chống gỉ ở môi trường khí quyển;
- Bảo vệ các chi tiết làm việc ở nhiệt độ cao;
- Thay thế kim loại màu bằng kim loại phun;
- Trang trí.
Một vài thống kê trên thế giới về sử dụng phun kim loại ở một số lĩnh
vực như sau:

11


- 65% cho việc bảo vệ chống gỉ các thiết bị, cấu trúc,...
- 35% cho việc phục hồi các chi tiết máy mòn, trong đó sử dụng nhiều
tính chất trượt (tính chịu mài mòn) của lớp phun.
Tuy nhiên phun kim loại vẫn còn những nhược điểm sau:
- Mối liên kết giữa các lớp phủ và kim loại nền còn thấp;
- Tổn thất kim loại nhiều;
- Ảnh hưởng đến độ bền của chi tiết (giảm giới hạn mỏi của chi tiết);
- Be mặt phun luôn luôn yêu cầu phải làm sạch và tạo nhấp nhô;
- Đòi hỏi trình độ tay nghề công nhân kỹ thuật cao, điều kiện làm việc

nặng nhọc.
Những nhược điểm này cũng chính là những hướng đang được nghiên
cứu hiện nay.
1.1.1. Sự hình thành và cấu trúc lớp phun phủ

Phun kim loại được tiến hành trên các đầu phun (pistole) dưới tác dụng
nung nóng chảy kim loại (dây phun) của hồ quang điện hoặc ngọn lửa khí
cháy. Kim loại lỏng được dòng khí nén thổi làm phân tán thành các lớp
sương mù kim loại rất nhỏ và được bám lên bề mặt chi tiết đã được chuẩn bị
sạch, tạo nên một lóp phủ dày, trong đó các phần tử kim loại đè lên nhau
theo từng lớp. Trên cơ sở các hiện tượng lý - hoá xảy ra trong quá trình
phun kim loại, sự hình thành lớp phủ rất phức tạp và vấn đề này có rất nhiều
quan điểm. Ở đây ta nêu một số quan điểm chính về sự hình thành lóp phủ
bằng phun kim loại.
1.1.2. Những quan điểm về sự xuất hiện lớp phủ

Phun kim loại được biết đến từ lâu và từ đó đến nay đã xuất hiện nhiều
công trình nghiên cứu khác nhau về việc giải thích sự hình thành và tính
chất của lóp phủ. Có thể chia ra thành các quan điểm lý thuyết như sau:
- Lý thuyết của Pospisil - Sehyl;
- Lý thuyết của Schoop;
12


- Lý thuyết của Karg, Katsch, Reininger;
- Lý thuyết của Schenk.
ì) Lý thuyết

củaPospisiỉ

-S e h y l

Tác giả của lý thuyết này đã kết luận ràng lớp phủ bằng phun kim loại
xuất hiện do các giọt kim loại lỏng bị phun bàng một dòng khí nén tốc độ
cao (trung bình khoảng 200 m/s). Các giọt này bị phá vỡ thành 'nhiều hạt
nhỏ. Dạng của các hạt này được đặc trưng bằng kim loại của nó. Theo bản
chất có thể chia thành hai nhóm:
- Các kim loại mà ôxyt của nó khi phun ở thể lỏng thì luôn luôn tạo
thành các hạt có dạng hình cầu,
- Các kim loại mà ôxyt của nó khi phun ở thể rẳn (như nhôm, kẽm) sẽ
tạo thành những hạt không đồng đều (đa cạnh).
Dạng của các hạt khi bay hoàn toàn không thay đổi mà chủ yếu chỉ xảy
ra sự ôxy hoá. Sự ôxy hoá kim loại thực chất bắt đầu xảy ra từ quá trình
chảy dây phun và trong thời điểm tạo ra các hạt nhở một phần lớn các ôxyt
sinh ra trong quá trình bay của các hạt, nghĩa là khi các giọt kim loại lỏng
bắt đầu tách thành các hạt nhỏ thì bề mặt của các hạt cũng bắt đầu tăng lớp
ôxyt. Số lượng ôxyt nhiều hay ít là nhân tố chính ảnh hưởng đến chất lượng
của lóp phủ.
Quá trình va đập cùa các hạt rất khó xác định bàng thực nghiệm vì quá
trình này xảy ra trong một thời gian rất ngắn, mà trong thời gian đó quá trình
này có ảnh hường rất lớn tới tốc độ bám của các phần tử với kim loại nền.
Từ các thực nghiệm, tác giả tính toán và kết luận ràng: các phần tử kim
loại trong thời điểm va đập trên bề mặt phun là thể lỏng.
2) Lý thuyết của Schoop
Tác giả đã giả định ràng: Năng lượng động năng của các hạt kim loại
khi bay được cung cấp bằng dòng khí nén, nên khi khi va đập lên bề mặt
phun thực tế có sự thay đổi nhiệt. Thực nghiệm đã xác định được rằng:
những hạt kim loại khi rơi khoi miệng vòi phun, bắt đầu bị nguội và đông
đặc rất nhanh do tác dụng của dòng khí nén. Trong thời điểm va đập chúng
sẽ có sự biến dạng dẻo, do vậy chúng liên kết vói nhau thành những lóp liên kết.

13


Tác già cố gắng chứng minh rằng các phần tử kim loại chảy lỏng khi
phun luôn luôn nguội dần. Trong một khoảng cách rất ngắn từ đầu vòi phun,
sự giữ nhiệt trong các dòng tia kim loại là tương đối thấp còn khoảng 50°c
đến 100°c. Do vậy tác giả đã kết luận cho lý thuyết của mình rằng: có thê
phủ được những vật liệu dễ cháy mà không xảy ra sự cháy.
3)

Lýthuyết của Karg, Katsch, Reininger

Lý thuyết này cho rằng những hạt kim loại bị nguội và đông đặc là do
tác dụng của nguồn năng lượng động năng của khí nén. Mặt khác trong quá
trình đi từ vòi phun các hạt đã ở trong trạng thái nguội như vậy sẽ không
xảy ra sự biến dạng dẻo.
4 ) Lý thuyết của Schenk
Tác giả cho ràng: nhiệt độ của các hạt phun phải lớn hom nhiệt độ chảy
lỏng để xảy ra sự hàn chặt chúng với nhau. Nhưng điều này không thực tế vì
thời điểm va đập trên bề mặt bị phun, kim loại lớp bề mặt nền có khả năng
bị đốt nóng đến nhiệt độ chảy để có thể xảy ra sự hàn gắn giữa các phần tử
với kim loại nền.
1.1.3. Co’ chế hình thành lớp phủ bằng phun

Trên cơ sở phân tích các lý thuyết trên, toàn bộ cơ cấu hình thành lớp
phủ có thể mô tả như sau: Trong pha đầu của quá trình phun kim loại được
đặc trưng bằng sự chảy của đầu dây phun. Trong pha thứ hai là sự tách các
giọt kim loại từ đầu dây, tiếp đó là quá trình bay và va đập của các hạt trên
bề mặt đã được chuẩn bị và cuối cùng là sự hình thành lớp phun kim loại

bàng mối liên kết của chúng với bề mặt kim loại nền.
Q
)1 uả trình chảy và sự phân tán kim loại phun
Khi phun kim loại bằng hồ quang điện, đầu tiên xảy ra sự tiếp xúc của
hai dây kim loại (điện cực). Nhờ ngọn lửa hồ quang điện gây tác dụng nung
nóng đáng kể kim loại ở vị trí tiếp xúc. Trong đó kim loại bị nung nóng tới
nhiệt độ cao hơn nhiệt độ chảy của chúng. Giọt kim loại xuất hiện sau khi bị
nóng chảy được phủ lên bề mặt điện cực. Giữa kim loại lỏng và môi trường
khí xảy ra quá trình khuyếch tán và sự tác dụng hoá - lý với nhau như ứng
14


suất bề mặt, nội năng, nhiệt độ và hệ số dẫn nhiệt, khả năng co rút gây ảnh
hường đến cấu trúc bên trong và các tính chất khác của giọt kim loại lỏng.
Trong quá trình chảv cũng xảy ra sự đốt cháy một số thành phần hoá học
trong kim loại lỏng.
Sự lớn lên của một số lượng kim loại lỏng chảy từ đầu dây tồn tại cho
đến khi lực động học của dòng không khí nén lớn hon ứng suất bề mặt kim
loại lỏng sẽ tách các giọt kim loại. Giọt kim loại bị áp lực của dòng khí nén
sẽ phân tách thành rất nhiều hạt nhỏ, những hạt này tạo ra những tia phun
kim loại.
Toàn bộ quá trình chảy và phân tán các hạt xảy ra rất nhanh. Sự phân
tán chỉ kéo dài khoảng 1/10.000 đến 1/100.000 giây. Và sau mồi giây tạo ra
khoảng 7.000 hạt kim loại. Dạng của các hạt xuất hiện từ sự phân tách giọt
kim loại và phụ thuộc vào loại kim loại. Điêu này có thê giải thích như sau:
mỗi hạt kim loại còn có phần trăm tỷ lệ nhất định các ôxyt, các ôxyt này có
thể chia làm hai loại:
- Loại lỏng bao bọc xung quanh hạt và tạo hạt có dạng hình cầu như
ở thép;
- Loại đặc bị đông đặc rất nhanh và giọt kim loại lỏng không thế tạo ra

dạng cầu, ví dụ như nhôm, kẽm.
2)

Quátrình bay của hạt

Toàn bộ quá trình bay của các hạt từ lúc bị phân tách từ giọt kim loại
đến khi va đập trên bề mặt phun kim loại xảy ra rất ngắn khoảng 2/1000 8/1000 giây. Trong quá trình bay của hạt, chủ yếu chỉ xảy ra sự ôxyt hoá, do
vậy các phần từ phun kim loại bị bao bọc bàng một lớp ôxyt, lớp này sẽ lớn
lên theo khoáng cách bay.
Các hạt kim loại chảy lỏng di động trong dòng không khí nén có tốc độ
rất lớn. Ngoài ra các phần tứ còn bị ảnh hưởng của rất nhiều nhân tố, biểu
thị ở những phản ứng không đồng nhất. Khi phun kim loại chúng ta phải
tính toán đến các vấn đề sau:
—Các hạt kim loại bay ra ở trạng thái lỏng hay trạng thái đã đặc sệt;
—Các phần tử phun luôn bị thay đổi tốc độ bay trong trường gia tốc;
15


- Các hạt luôn phản ứng với môi trường xung quanh mà trong môi
trường này chứa ôxy, nitơ, hydrô, hơi nước và các thành phần hoá học khác;
- Khả năng của khí phụ thuộc vào nhiệt độ cũng như áp lực riêng
của khí.
3) Sự hình thành lóp phủ bàng phun kim loại
Quá trình hỉnh thành lóp phủ bằng phun kim loại tương đối phức tạp.
Trên cơ sở những kết quả của nhiều thí nghiệm và tính toán, người ta đã xác
định rằng: các phần tử kim loại trong thời điểm va đập lên bề mặt phun ở
trạng thái lỏng và bị biến dạng rất lớn.
Để hiểu sự hình thành lớp phủ cần phải chủ ý đến các hiện tượng xảy ra
khi va đập của các phần tử lên bề mặt kim loại cần được phun phủ (vật
liệu nền):

+ Vấn đề thứ nhất là động năng của các phần tử va đập lên bề mặt phun
gây ra sự tác dụng và biến dạng rất nhanh, mạnh. Năng lượng động năng
này được xác định bằng tốc độ của các phần tử và khối lượng của chúng
Eli = 1/2 mV2. Bởi vậy các phần tử có độ lớn khác nhau sẽ có năng lượng
động năng khác nhau (khi chúng có cùng một tốc độ). Tốc độ bay của các
phần tử là một nhân tố cho việc xác định sự biến dạng của các phần tử.
Arnold tính toán tốc độ cần thiết cho một vài kim loại khi va đập lên bề mặt
chi tiết theo phương trình [10]:
( 1. 1)

m-

Ở đây:

—

, khi

G = 1 thì tốc độ cần thiết cho việc tan vỡ khi

g
( 1.2)

m - khối lượng của phần tử phun [g];
V —tốc độ của các phần tử khi va đập [m/s];
c - tỷ nhiệt [calg-1 °c~1];
tị - nhiệt độ phần tử kim loại trong thời điểm va đập trên bề mặt chi tiết [°C];
h - nhiệt độ chảy của các phần tử kim loại [°C];
S - ẩn nhiệt [cal].
16

+ vấn đê thứ hai cần quan tâm để xác định sự biến dạng của các phần
tử: lớp vỏ ôxyt trên các phần tứ có ảnh hưởng rất lớn đến tính chất này. Điều
cân khăng định là trong thời gian va đập lớp ôxyt phải là lỏng. Như vậy,
trong trường hợp này không thể giữ được sự biển dạng của các phần tử và
ngược lại ờ các phần tử có lớp vỏ cứng, khả năng biến dạng của nó chủ yếu
xác định bằng lóp vỏ bọc này.
Khả năng biến dạng của các phần tử thép với lóp màng bọc ôxyt ở trạng
thái lỏng phụ thuộc vào sự biến dạng của các phần tử trước nó không kết
thúc ngay mà còn xảy ra sự biến dạng tiếp theo do sự tác dụng của các phần
tử sau, giống như sự tác dụng của rèn. Sự biến dạng của các phần tử xảy ra
rất nhanh. Bởi vậy khi các phần tử sau va đập lên các phần tử trước thì các
phần tử trước hãy còn ở trạng thái lỏng hoặc ở trạng thái sệt, giữa chúng dễ
dàng xảy ra sự liên kết kim loại với nhau.
4) Cẩu trúc của lóp phun kim loại
Lóp phủ bằng phun kim loại có tính chất và thành phần khác hẳn với
vật liệu ban đầu. Trên hình 1.3 là cấu trúc thô đại của lóp phủ bằng phun. Ở
đây ta thấy rằng: đặc trưng cơ sở của cấu trúc này là những tấm kim loại với
kích thước từ 0,1 - 0,2 mm và chiều dày là 0,005 - 0,01 mm. Các phần tử
này có độ biến dạng khác nhau và bị phân cách với nhau bàng một lóp ôxyt
mỏng với chiều dày 0,001 mm.

17


cấu trúc của lớp kim loại phủ có đặc trưng cùa các cấu trúc bị nguội
lạnh đột ngột. Ở lớp thép cácbon (có thành phần cácbon cao) thường có cấu
trúc bainhit. Ngoài những phần tử nền này ra, trong lớp phủ còn chứa các
phần tử nhỏ không biến dạng, những phần tử này khi va đập lên bề mặt nền

đã ở trạng thái rắn.
Sự nguội lạnh của các phần tử xảy ra rất nhanh và bị tác dụng bởi tốc
độ nguội lạnh rất lớn, nên trong cấu trúc, ngoài dung dịch đặc Fe - c còn có
dung dịch đặc của Fe - ôxyt, do vậy khi đông đặc sẽ xuất hiện trong mạng
những trung tâm lệch mạng, những trung tâm này có ảnh hưởng đến độ bám
của lóp phủ.
Trong lóp phủ thép có thể có hai loại ôxyt, một loại ôxyt được hình
thành riêng biệt, loại khác bao bọc quanh các phần tử kim loại biến dạng.
Loại đầu thường coi là bất lợi, làm xấu tính chất cơ học của lớp phủ. Loại
thứ hai đóng vai trò liên kết các phần tử kim loại riêng biệt. Bên cạnh các
cấu trúc trên, trong thành phần cấu trúc của lóp phủ phải kể đến một lượng
khá lớn các lồ xốp. Các lỗ xốp này được hình thành do sự liên kết không
*£hặt chẽ của các phần tử kim loại khi biến dạng. Các lồ xốp có trong cấu
trúc của lóp phủ sẽ tạo cho lóp phủ những tính chất tốt khi làm việc trong
điều kiện cần bôi trơn (hình 1.4).
Ngoài ra cần xét đến thành phần hoá học của lóp phủ kim loại. Nói
chung thành phần hoá học (các nguyên tố kim loại) của lóp phủ thường
giảm đi so với kim loại ban đầu (dây phun hoặc bột phun).
Bảng 1.1 cho ta thấy sự so sánh thành phần hoá học của lớp phủ thép
với dây phun.
Bảng

18

1.Thành phần hoá học

c (%)

Mn (%)

Si (%)

s (%)

Dây phun

0,47

0,65

0,33

0,033

Lớp phủ

0,31

0,25

0,16

0,024


Như vậy thành phần hoá học của lớp phủ so với thành phần gốc thì hàm
lượng bị giảm 40 - 50%. Nguyên nhân của hàm lượng bị giảm là do bị ôxy
hoá trong quá trình phun.

Hình 1.4. Cấu trúc của một số lớp phủ

a) Vật liệu phun lll-H A 01 200; b) Vật liệu III 10H 01 200; c) Vật liệu IIC 124 BK 01 200

1.2. CÁC PHƯƠNG PHÁP PHUN PHỦ KIM LOẠI BẢNG NHIỆT KHÍ
1.2.1. Phân loại [10], [47]

Do phun kim loại đều dùng nhiệt đề nung chảy kim loại và dùng dòng
khí có áp suất để thổi kim loại lỏng phân tán ra thành bụi để phủ lên bề mặt
kim loại nền, vì vậy phương pháp có tên gọi là phun kim loại bằng nhiệt khí.
Tuỳ theo quan điểm về dấu hiệu và đặc trưng mà phương pháp phun
kim loại bằng nhiệt khí có các tên gọi khác nhau:
Theo dạng năng lượng có: phương pháp điện - khí, phương pháp ngọn
lửa ga.
Theo nguồn nhiệt: phương pháp điện - khí được chia ra: phương pháp
hô quang điện, phương pháp plasma, phương pháp dòng điện cảm ứng cao
tần. Phương pháp ngọn lửa ga bao gồm: phương pháp ngọn lửa cháy
ôxy-axêtylen và phương pháp dùng nhiệt bằng kích nổ khí.
Theo môi trường bảo vệ: có phương pháp áp suất thường (ngoài không
khí) và phun trong môi trường chân không.
Theo dạng vật liệu phủ thì phun kim loại còn chia ra: phun bàng dây và
phun bằng bột.

19


1.2.2. Phương pháp phun phủ bằng ngọn lửa ôxy-axêtylen

1.2.2.1.

Khái niệm

Vật liệu phủ (có thể dạng dây hoặc dạng bột) được nung nóng chảy
bàng ngọn lửa ga. Kim loại lỏng bị dòng khí nén phân tán thành bụi và đẩy
đi với vận tốc cao hướng vào bề mặt kim loại cơ sở đã được chuẩn bị. Tại bề
mặt chi tiết diễn ra quá trình liên kết giữa các phần tử của hai pha kim loại
để tạo thành lớp phủ.
1.2.2.2.

Nguyên

lý và đặc điểm của phưong pháp (xe
100~200 rrưn

1 . 5 . Sơđồ nguyên lý phun phủ bằng ngọn lửa ôxy-axêtylen

Hình

1. Khí nén; 2. Khí ôxy; 3. Dây vật liệu phủ; 4. Thân đầu phun;
5. Tâm ngọn lửa; 6. Vùng nóng chảy; 7. Ngọn lửa; 8. Dòng khí nén;
9. Lớp phủ; 10. Dòng phần tử kim loại phủ; 11. Kim loại nền.

Dây vật liệu phủ cấp theo lỗ tâm (2) và bị nung chảy tại vùng tâm ngọn
lửa (5). Dòng khí nén (8) phân tán kim loại lỏng thành bụi và thổi đi thành
dòng phần tử (10) hướng vào bề mặt kim loại cơ sở (11) tạo ra lớp phủ (9).
Phản ứng khí cháy axêtylen:
2C2H2 + 502 = 4C02 + 2H20 + 1262,86 kJ
Như vậy cứ 2,5 ôxy thì 1 axêtylen, nhưng thực tế tỷ lệ trên chỉ là 1,1:1,
điều này được giải thích phần ôxy còn lại được lấy từ không khí xung quanh.
1.2.2.3.Các thông số ảnh hưởng đến chát lượng phun phủ
a) Thông

sốkết cẩu đầu phun:

- Đường kính lỗ phun ga, đường kính lỗ đầu phun.

20


Chế độ phun:

- Áp suất khí cháy
pc,áp suất khí thổi mức tiêu thụ khí chá
hỗn hợp khí ß: thường dùng pc = (30 - 35). 1o3 Pa; = (3 00 - 400). 103 Pa;
(1 KG/cm2 == 100.000 Pa; 1 MPa = 1.000.000 Pa);
0,5 - 2,5 m3/h,
ß = 1,1 - 4 (mức thấp nhất dùng cho ôxy-axêtylen còn cao dùng cho khí
prôpan butan).
b)

Cácthông

sổ của

vật

liệuphủ

- Cỡ hạt: 1 0 - 1 0 0 pm, hạt càng lớn nóng chảy càng kém, mức tiêu
hao bột: 0 , 5 - 1 0 kg/h, đường kính dây vật liệu phú 1 - 5 mm, vận tốc cấp
vật liệu phủ 0,15 - 1 m/s.
c) Các thông

-

số công nghệ

gồm:

Khoảng các phun: 75 - 200 mm, góc phun 30° - 90°.

d) Các thông số của tia

lửaga và dòng phân tử

- Vận tốc tia lửa ga: 150 - 300 m/s, vận tốc của phần tử phủ 20 - 100 m/s,
nhiệt độ cho vật liệu bột < 2437°K. nhiệt độ cho vật liệu dây < 2973°K (0°c
tương ứng với thang đo 273° K).
I.2.2.4.

ưu,nhu’Ç'c điếm và

lĩn h vực ứ

ưu
điểm:
Giá trang thiết bị thấp, sử dụng đơn giản, phù hợp với sản xuất nhỏ, tính
thông dụng cao.
Nhược điểm:
Hiệu quả thấp khi dùng các vật liệu phủ có nhiệt độ nóng chảy cao.
Lĩnh vực ứng dụng:
Phương pháp ứng dụng rất đa dạng cho các sản phẩm và dùng cho cả
vật liệu phủ dạng dây và dạng bột có nhiệt độ nóng chảy < 2473°K và

2973 K.
1.2.3. Phun phủ bằng kích nổ khí

1.2.3.1.K hái niệm
Phương pháp dùng nguồn nhiệt tạo ra do kích nổ khí với công suất đạt
hàng triệu oát, vận tốc phần tử phủ đạt tới 800 - 1500 m/s, nhiệt độ đạt
3000 - 4000°K.
21


1

2

3

Hình

4

5

6

7

8

1.6.Sơ đồ nguyên lý phun phủ bằng kích nổ khí
1. Buồng cháy; 2. Bộ phóng điện; 3. Sóng nhiệt;

4. Sóng nổ; 5. Kênh dẫn; 6. Hỗn hợp khi; 7. Ngọn lửa; 8. Dòng phần tử.

I - khí C2 H2 , II - khí 0 2, III - khí N2.

1.2.3.2.

Nguyên

lý và đặc điếm của phương pháp (xe

Trong buồng cháy (1) được nạp hỗn hợp khí, ví dụ: C2H2 + O2 + N2.
Khi bộ phóng điện (2) phóng điện làm cháy hồn hợp khí, tạo ra sóng nhiệt
(3), sóng nổ (4), tạo ra sản phấm cháy và hỗn hợp khí (6). Vật liệu phù đồng
thời nạp vào kênh. Ngọn lửa (7) làm nóng chảy vật liệu phủ và bị dòng khí
có áp suất đẩy đi tạo thành dòng phần tử phủ (8).
1.2.3.3.

Các thông số ảnh hưởng đến

phủ

Thông sổ kết cẩu đầu phun gồm: đường kính kênh dẫn

chiều dài

kênh dẫn
lc,thường lấy dc = 8 - 4 0 mm, /c = 1200 - 2000 mm. Hình dạng
ổng, độ bóng bề mặt ống và tỷ lệ dcllc cũng ảnh hưởng nhiều đến chất lượng
lớp phủ.

Chế độ phun gồm: Mức tiêu hao khí G, tỷ lệ khí cháy và ôxy ß, áp suất
khí p.

Lấy

G 0- , 2 - 6 m3/h cho axêtylen và ôxy, ß = 1,21 - 1,25,

p = 0,05 -0 ,1 5 MPa.
22


Thông sô

ngoại

vi

gôm:

- Khoảng cách phun 50 - 200 mm,
- Góc phun 45° - 90°
1.2.3.4.
Ưu
-

ưu,nhược diêm

lĩn h ứng dụn

và

điểm:

Độ bền bám dính cao hơn 10 MPa, có thể phủ được chi tiết nguội có

nhiệt độ nóng chảy < 473°K, năng suất cao, 0 = 1 —10 rrr/h, dùng được
nhiều loại bột kim loại.
Khược

điểm:

- Tiếng ồn lớn (>140 ílB), không phủ được sản phấm có độ címg > 60
HRC, khó khăn khi dùng bột có khối lượng riêng nhỏ, đầu tư trang thiết bị lớn.
Lĩnh

vựcứng dụng:
-

ủng dụng cho dùng loại bột và phủ cho các sản phẩm khác nhau về

độ lớn, có yêu cầu độ bám dính cao. Phủ được cho sản phẩm nguội có nhiệt
độ nóng chảy < 473°K.
1.2.4. Phương pháp phun phủ bằng hồ quang điện

1.2.4.1.

Khái niệm

Bản chất của phương pháp hồ quang điện là lợi dụng ngọn lửa hồ quang
để nung nóng chảy vật liệu phủ, rồi dùng dòng khí có áp suất thổi những

giọt kim loại lỏng thành dòng bụi với vận tốc cao hướng vào bề mặt kim
loại cơ sở.
1.2.4.2.

ỵỉguyên ìý và đặc điểm cửa phương pháp (xem hình

7)

Nguyên lý hoạt động: Dây vật liệu (2) được nối với hai điện cực khác
nhau nhờ công tắc (5). Khi mạch điện đóng đồng thời dây kim loại (2)
chuyển động nhờ con lăn (4). Khi tiếp cận đầu dây (2) xuất hiện hồ quang
làm nóng cháy kim loại. Khí thổi phân tán những giọt kim loại vào bề mặt
kim loại nền.

23


2

1

3

4

Hình

1
.7
Sơ đồ nguyên lý cùa phun phủ bằng hồ quang điện

1. Ngọn lửa hồ quang; 2. Dây kim loại phủ; 3. Đầu phun;
4. Con lăn; 5. Công tắc; 6. Dòng vật liệu.
/ - Khoảng cách phun; /|C- chiều dài công tắc; ld khoảng cách từ công tăc
tới đầu phun; ƠH - đường kính bề mặt phủ; u - hiệu điện thế mạch.

1.2.4.3.Các thông
Thông

số ảnh

sổkết

cấuđầu phun

gồm:

Đường kính lỗ đầu phun ¿4 = 3 - 6 mm, hình dạng đầu phun, góc chéo
nhau của 2 dây, thường chọn (0 = 30°.
Chế độ phun gồm:
Công suất dòng hồ quang Nd\ tiêu hao khí thổi G
Kinh nghiệm cho thấy chọn Nd = 2000 - 10.000 kJ/kg và
m3/h tưcmg ứng với áp suất 0,35 - 0,55 MPa.
Các thông số cùa vật

= 60 - 150

liệuphù

- Đường kính dây
v= 0,05 -0 ,3 5 m/s.

d.Tốc độ cấp dây

Thường lấy

Các thông số công nghệ gồm:
-

Góc phun chọn: 65° - 90°, khoảng cách phun 60 - 150 mm.

Các thông
-

sổcủa dòng vật

Thường chọn cỡ hạt 10 - 100 pm, vận tốc bay của hạt tại phần đầu

của dòng hạt > 300 m/s và đến gần bề mặt kim loại nền còn 50 - 150 m/s.
24

liệugồ


1.2.4.4.
Lu

và

ưu,nhược điêm

lĩn h

điểm

- Năng suất cao. hệ số sử dụng vật liệu cao 0.7 - 0.85, chất lượng phủ
cao, độ bám dính cao.
Nhược
-

điềm:

Chỉ dùng được vật liệu dây, nhậy cảm với khí hoạt tính.

Lĩnh

vựcứng dụng:

- ứng dụng phố biến để phủ bảo vệ các sản phẩm kết cấu. Do vậy vật
liệu phủ chủ yêu là nhôm, kẽm. thiếc, đồng và các hợp kim của chúng.
1.2.5. Phun phủ bằng plasma

1.2.5.1.K lìái niệm
Khi ở nhiệt độ tuyệt đối
(0°K) thì trạng thái của 2
nguyên ử chất khí (H2, N2,...)
bắt đầu có trạng thái (a)
chuyển lộng song song theo
trục X, y, z. Ở nhiệt độ 10°K
thì xuấl hiện thêm chuyến
động quiy, nếu tiếp tục tăng,

ví dụ dến 1000°K thi các

b)

c)
1

2

phần tử dao dộng (b). Sự va
d>
chạm minh lẫn nhau dẫn đến
Hình
1.8.
Sơ dồ CO’ chế tạo thành plasma
phân chia phàn tử (c). Ở trạng
1. lon dương, 2. Điện tlch
a) Trạng thái ban đầu; b) Trạng thái dao động;
thải nhu vậy mỗi chất khí có
c) Trạng thái phân chia phân tử;
nhiệt độ riêng, ví dụ: khí ôxy
d) Trạng thái mất điện tích
3000°K, nitơ 4500°K. Tiếp
tục tăng nhiệt độ thì quá trình ion hoá hoàn toàn (d) trong điều kiện áp suất
không kú bắt đầu ớ nhiệt độ 10.000°K. Trạng thái được tạo thành với phần
lớn ngujên tử hoặc phân tử được ion hoá, còn lượng điện tích và ion âm

25