AN TOÀN BỨC XẠ - TẨY XẠ CHO CÁC BỀ MẶT BỊ NHIỄM XẠ - PHƯƠNG PHÁP THỬ NGHIỆM VÀ ĐÁNH GIÁ TÍNH DỄ TẨY XẠ

Công ty luật Minh Khuê

www.luatminhkhue.vn
TIÊU CHUẨN QUỐC GIA
TCVN 6854:2001
ISO 8690 : 1988

AN TOÀN BỨC XẠ - TẨY XẠ CHO CÁC BỀ MẶT BỊ NHIỄM XẠ - PHƯƠNG PHÁP THỬ NGHIỆM VÀ
ĐÁNH GIÁ TÍNH DỄ TẨY XẠ
Decontamination of radioactively contaminated surfaces - Method for testing and assessing the ease
of decontamination
Lời nói đầu
TCVN 6854 : 2001 hoàn toàn tương đương với ISO 8690:1988.
TCVN 6854 : 2001 do Ban kỹ thuật tiêu chuẩn TCVN/TC 85 Năng lượng hạt nhân biên soạn, Tổng
cục Tiêu chuẩn Đo lường Chất lượng đề nghị, Bộ Khoa học, Công nghệ và Môi trường (nay là Bộ
Khoa học và Công nghệ) ban hành.
Tiêu chuẩn này được chuyển đổi năm 2008 từ Tiêu chuẩn Việt Nam cùng số hiệu thành Tiêu chuẩn
Quốc gia theo quy định tại Khoản 1 Điều 69 của Luật Tiêu chuẩn và Quy chuẩn kỹ thuật và điểm a
khoản 1 Điều 6 Nghị định số 127/2007/NĐ-CP ngày 1/8/2007 của Chính phủ quy định chi tiết thi hành
một số điều của Luật Tiêu chuẩn và Quy chuẩn kỹ thuật.
Lời giới thiệu
Tiêu chuẩn này nhằm xác định các điều kiện khách quan để thử nghiệm tính dễ tẩy xạ của các bề
mặt. Phương pháp thử nghiệm này được xây dựng để thu nhập dữ liệu cho phép so sánh tính dễ tẩy
xạ của các vật liệu có bề mặt khác nhau. Phương pháp này có thể sử dụng cho các thử nghiệm so
sánh với bất cứ hạt nhân phóng xạ nào trong các dung dịch nước. Việc đánh giá các kết quả của một
loạt các phép thử so sánh có thể thực hiện căn cứ vào tốc độ đếm xung tồn dư trung bình. Để có thể
xem chất lượng chung của vật liệu bề mặt như là sản phẩm đơn nhất, tiêu chuẩn này quy định việc
thử nghiệm và đánh giá dựa trên sự nhiễm xạ của dung dịch có chứa hạt nhân phóng xạ 60Co và
137
Cs. Hai hạt nhân phóng xạ này được lựa chọn vì chúng là hai loại nguồn gây nhiễm xạ quan trọng
nhất trong công nghiệp hạt nhân. Việc đánh giá kết quả một thử nghiệm riêng lẻ được tiến hành bằng

cách sử dụng một bảng đánh giá các tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng dựa trên các thí nghiệm luân
phiên.
Việc so sánh trực tiếp kết quả của phương pháp tẩy xạ này với các kết quả thu được khi áp dụng các
quy định hoặc tiêu chuẩn quốc gia khác có thể sẽ không hiệu quả hoặc không phù hợp do bản chất
khác nhau của phương pháp được sử dụng.
Các phụ lục A, B, C và D là các phụ lục quy định của tiêu chuẩn này.
AN TOÀN BỨC XẠ - TẨY XẠ CHO CÁC BỀ MẶT BỊ NHIỄM XẠ - PHƯƠNG PHÁP THỬ NGHIỆM
VÀ ĐÁNH GIÁ TÍNH DỄ TẨY XẠ
Decontamination of radioactively contaminated surfaces - Method for testing and assessing
the ease of decontamination
1. Phạm vi và lĩnh vực áp dụng
Đặc tính kỹ thuật được quy định trong tiêu chuẩn này áp dụng cho việc thử nghiệm các bề mặt bị
nhiễm xạ.
Dữ liệu về khả năng tẩy xạ thu được khi áp dụng phương pháp thử này không áp dụng cho các hệ
thống kỹ thuật mà ở đó các lớp vật chất gây nhiễm xạ được hình thành sau một thời gian dài chịu
nhiệt độ và áp suất cao hơn (ví dụ như các vòng sơ cấp của lò phản ứng hạt nhân).
Mục đích của thử nghiệm này là đánh giá tính dễ tẩy xạ của bề mặt trong điều kiện phòng thí nghiệm.
Trong ứng dụng thực tế, việc xem xét các tính chất khác, như tính bền hóa, cơ và phóng xạ; và tính
ổn định lâu dài khi lựa chọn vật liệu để sử dụng có thể sẽ quan trọng. Cần lưu ý rằng các thử nghiệm
tẩy xạ tiếp theo trong điều kiện mơ phỏng các hoạt động có thể sẽ cần thiết.
2. Tiêu chuẩn viện dẫn
ISO 15, Rolling bearings - Radial bearings - Boudary dimensions - General plan
ISO 273, Fasteners - Clearance holes for bolts and screws

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Công ty luật Minh Khuê

www.luatminhkhue.vn

ISO 683-13, Heat-treated steels, alloy steels and free-cutting steels - Part 13: Wrought stainless steels
ISO 2009, Slotted coutersunk head screws (common head style) - Product grade A
ISO 2010, Slotted raise coutersunk head screws (head style) - Product grade A
ISO 4762, Hexagon socket head cap screws - Product grade A
3. Định nghĩa
Các định nghĩa sau được sử dụng trong tiêu chuẩn này:
3.1. Nhiễm xạ (contamination):
Sự có mặt khơng mong muốn của hạt nhân phóng xạ trên bề mặt hoặc ngấm không sâu vào bề mặt.
3.2. Tẩy xạ (decontamination):
Việc loại đi toàn bộ hoặc một phần sự nhiễm xạ mà khơng làm thay đổi các tính chất của bề mặt.
3.3. Tốc độ đếm xung riêng (specific pulse rate):
Tốc độ đếm xung gây ra bởi 1 ml dung dịch nhiễm xạ. trong thiết bị đo trong điều kiện hình học đã cho
Tốc độ đếm này được tính bằng xung/min/ml. Các tốc độ đếm xung được thu được do các chu kỳ
đếm được khi áp dụng hiệu chỉnh thời gian chết và phông.
3.4. Tốc độ đếm xung tồn dư (residual pulse rate):
Tốc độ đếm xung gây ra bởi các hạt nhân phóng xạ tồn dư trên bề mặt đã thử nghiệm của mẫu sau
khi được tẩy xạ trong thiết bị đo trong điều kiện hình học đã cho.
Tốc độ đếm này được tính bằng số xung/min.
3.5. Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình (mean residual pulse rate):
Trung bình số học của trị số tần suất xung tồn dư thu được đối với năm mẫu thử bị nhiễm xạ bởi cùng
một hạt nhân phóng xạ.
Tốc độ đếm xung này được tính bằng xung/min.
3.6. Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa (standardized mean residual pulse
rate):
Trị số của tốc độ đếm xung tồn dư trung bình đã được hiệu chỉnh. Hệ số hiệu chỉnh thu được bằng
cách chia giá trị tham chiếu của tốc độ đếm xung riêng cho tốc độ đếm xung của dung dịch gây nhiễm
xạ sử dụng khi thử nghiệm.
Tốc độ đếm xung này được tính bằng xung/min.
Mục đích của hệ số hiệu chỉnh là nhằm khắc phục sự sai khác về giá trị tốc độ xung riêng của các

dung dịch gây nhiễm xạ được sử dụng trong các phịng thí nghiệm khác nhau.
3.7. Tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng (final residual pulse rate):
Trung bình số học của trị số tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn thu được đối với 60Co và
137
Cs.
Chu kỳ này được tính bằng xung/min.
4. Nguyên tắc
Chuẩn bị một loạt các dung dịch gây nhiễm xạ riêng biệt chứa 60Co và 137Cs (nồng độ chất mang: 10-5
mol; độ pH: 4). Sử dụng một đầu dò bức xạ rộng bản đo từng mẫu, mỗi mẫu 100 µl dung dịch và sử
dụng kết quả đo để tính tốn tốc độ đếm xung riêng của các dung dịch gây nhiễm xạ.
Làm nhiễm xạ một diện tích xác định trên bề mặt mẫu vật được thử nghiệm bằng các dung dịch gây
nhiễm xạ và sau đó tẩy xạ bằng nước đã loại khoáng. Xác định tốc độ đếm xung tồn dư được thực
hiện bằng việc đo các mẫu bị nhiễm xạ.
Tính tốn tốc độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa đối với mỗi hạt nhân phóng xạ. Sử dụng
giá trị trung bình số học của các trị số tương ứng với 60Co và 137Cs (tốc độ đếm xung tồn dư cuối
cùng) để đánh giá tính dễ tẩy xạ nhờ sự phân hạng được lập ra bằng thực nghiệm.
5. Thiết bị
Các thiết bị thơng thường của phịng thí nghiệm, và

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

5.1. Hai cốc thủy tinh có mỏ, cốc loại thấp, có dung tích 2000 ml và đạt yêu cầu của ISO 3819
5.2. Đầu dò bức xạ và thiết bị điện tử kết nối để xác định tốc độ đếm xung.
Kích thước tối thiểu vùng nhạy của đầu dị phải có đường kính 30 mm, nhưng trong thực tế do yêu
cầu hình học quy định thường phải sử dụng một vùng nhạy lớn hơn. Các loại đầu dị thích hợp bao

gồm các loại: ống đếm tỉ lệ, đầu dò nhấp nháy và bán dẫn.
Để phù hợp với các yêu cầu hình học, tỷ số (lmin-12,5 mm) : h khơng được nhỏ hơn 3, trong đó lmin là
khoảng cách nhỏ nhất, tính bằng milimét, từ tâm khu vực bị nhiễm xạ và vng góc với tiết diện
ngang của đầu dò, đến mép vùng nhạy của tiết diện ngang đầu dị; và h là khoảng cách, tính bằng
milimét, từ bề mặt bị nhiễm xạ của mẫu thử đến bề mặt đầu dị.
Nếu u cầu hình học quy định khơng thỏa mãn [tức là (lmin-12,5 mm):h phải không được nhỏ hơn 3],
thì có thể sử dụng một đầu dị có vùng nhạy trịn với đường kính khơng nhỏ hơn 30 mm, với điều kiện
là:
a) đối với việc xác định tốc độ đếm xung riêng (xem 8.1), dùng 100 µl dung dịch gây nhiễm xạ được
nhỏ đều từng giọt lên một diện tích hình trịn có đường kính 25 mm, tức là diện tích của mẫu thử
được làm nhiễm xạ.
b) tốc độ đếm xung thực của 100 µl dung dịch nhiễm xạ được đo trong các điều kiện hình học này
khơng được nhỏ hơn 200.000 xung/min (xem 8.1)
Chú ý - Phải có thiết bị riêng cho hai hạt nhân phóng xạ để ngăn ngừa sự nhiễm xạ chéo, các
thiết bị được nêu trong các điều 5.3 và 5.6.

Hình 1 - Yêu cầu hình học (mặt cắt)
5.3. Hai pipet, dung tích 100 µl với các đầu hút chỉ dùng một lần.
5.4. Hai pipet, dung tích 1000 µl với các đầu hút chỉ dùng một lần.
5.5. Hai cốc có mỏ bằng polytetrafloetylen (PTFE)
5.6. Hai bình đựng làm bằng polytetrafloetylen (PTFE)
Chú thích - Những vật liệu được flo hóa có độ bền hóa học tương tự có thể dùng thay thế cho
polytetrafloetylen (PTFE) như polytetrafloetylen/ perflopropylen (PTFE/PFP), perrflo alkoxyl alkan
(PFA) và poly vinyliden florua (PVDF).
5.7. Năm giá kẹp để giữ mẫu, làm bằng poly (metyl metacrylat) (PMMA), dùng để định vị cho công
đoạn gây nhiễm xạ (xem phụ lục A).
Mỗi giá kẹp có một vòng cao su silicon phẳng (45 mm x 25 mm x 2 mm) làm bằng vật liệu xốp có độ
cứng Shore A khơng q 60.
Chú thích - Cao su silicon xốp, khơng nhuộm màu, chứa fluo đặc biệt thích hợp với mục đích này.
Trước khi sử dụng lần đầu, các vòng cao su phải được rửa sạch bằng hỗn hợp dung mơi hữu cơ để

rửa các mẫu thử. Các vịng này chỉ nên sử dụng lại sau khi đã tẩy xạ kỹ.
Chú thích - Mười giá kẹp, năm cái cho mỗi hạt nhân phóng xạ, sẽ làm giảm đáng kể thời gian cần
thiết để tiến hành thử nghiệm và phòng ngừa sự nhiễm xạ chéo.
5.8. Máy khuấy dạng buồng cho sáu mẫu thử phù hợp với phụ lục B. Thiết bị phải có một động cơ
để quay cánh khuấy với tốc độ 100 vòng/min.
6. Tác nhân gây nhiễm xạ và tẩy xạ
6.1. Dung dịch gây nhiễm xạ
6.1.1. Thành phần của các dung dịch gây nhiễm xạ

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Công ty luật Minh Khuê

www.luatminhkhue.vn

Các mẫu thử gây nhiễm xạ chứa 137Cs và 60Co trong các dung dịch riêng biệt.
Việc sử dụng các hạt nhân phóng xạ khác trong các dung dịch nước có thể thích hợp hơn về mặt
chủng loại và tính chất hóa học đối với mục đích định trước của vật liệu bề mặt, nhưng cần tham khảo
ý kiến của phòng thử nghiệm.
Tuy nhiên, các dung dịch gây nhiễm xạ cần phải bền vững về mặt hóa học và khơng ăn mịn các mẫu
thử. Các mẫu được tẩy xạ phải có độ bền cao để cho phép đo được độ nhiễm xạ tồn dư. Trường hợp
các hạt nhân phóng xạ mà bức xạ phát ra có thể bị hấp thụ thì có thể dùng những kỹ thuật đo đặc
biệt.
Nồng độ phóng xạ của dung dịch gây nhiễm xạ phải đủ lớn sao cho 100 µl mẫu thử sau khi bay hơi
tạo ra một tốc độ đếm xung không nhỏ hơn 200.000 xung/min trong dụng cụ đo, sau khi đã hiệu chỉnh
thời gian chết và phơng.
Chú thích - Nồng độ hoạt độ 0,2 MBq/ml đủ để đáp ứng yêu cầu.
Các hạt nhân phóng xạ phải được dùng với một nồng độ chất mang là (1 ± 0,1) x 10-5 mol/l trong dung
dịch axit nitric có pH là 4,0 ± 0,2. Độ pH của chất gây nhiễm xạ phải được kiểm tra hàng tháng. Các

mẫu thử gây nhiễm xạ cần loại bỏ sau kiểm tra.
6.1.2. Chuẩn bị các dung dịch gây nhiễm xạ
6.1.2.1. Trừ các ion Co2+ và Cs+ và các iôn nitrat tương ứng, các dung dịch gốc hạt nhân phóng xạ
khơng được chứa các thành phần khác mẫu tồn lại trên bề mặt khi dung dịch đã bốc hơi như mô tả
trong 6.1.2.4. Thuốc thử được sử dụng phải là loại dùng trong phân tích hoặc tốt hơn.
6.1.2.2. Trên cơ sở các số liệu đã có về nồng độ phóng xạ của dung dịch gốc 137Cs và 60Co, có thể
tính được lượng các dung dịch này cần dùng để điều chế một lượng dung dịch gây nhiễm xạ. Công
thức để chuẩn bị dung dịch gây nhiễm xạ cho trong phụ lục C.
6.1.2.3. Bước tiếp theo là từ lượng đầu vào tính ra lượng chất mang cần dùng với các hạt nhân
phóng xạ và từ đó tính lượng dung dịch coban (II) nitrat [Co(NO3)2] hoặc cesi nitrat (CsNO3), lượng
dung dịch tương ứng cần thêm vào để tạo ra nồng độ chất mang (1 ± 0,1) x 10-5 mol/l trong dung dịch
tương ứng. Đổ các dung dịch chất mang này vào các bình polytetrafloetylen có dung tích đủ để pha
lỗng các dung dịch đó đến thể tích cuối cùng. Để thay thế các ion clo có thể có trong các dung dịch
gốc của các hạt nhân phóng xạ, cần thêm 5 ml dung dịch axit nitric (độ tinh khiết cao) [c(HNO3) = 1
mol/l] tính cho 90 ml thể tích cuối cùng của dung dịch gây nhiễm xạ. Cuối cùng, thêm lượng dung dịch
gốc 137Cs hoặc 60Co đã tính.
6.1.2.4. Làm bay hơi hết hỗn hợp bằng cách dùng đèn hồng ngoại đến khi q trình bay hơi kết thúc.
Sau đó nung nóng bình trong 2 giờ nữa bằng đèn hồng ngoại ở khoảng cách gấp đôi khoảng cách
ban đầu. Sau khi làm nguội, thêm vừa đủ axit nitric có pH 4 [thực hiện bằng cách pha lỗng 7 µl axit
nitric (ρ = 1,4 g/ml) thành 1 I bằng nước cất hai lần].
Kiểm tra tốc độ đếm xung riêng của dung dịch đã khuấy kỹ theo 8.1.
Việc xác định giá trị pH được tiến hành ít nhất 12 giờ sau khi hịa tan cặn khơ.
6.1.2.5. Để tránh thành bình làm thay đổi nồng độ, các dung dịch riêng biệt phải đựng trong bình bằng
polytetrafloetylen nút kín và dùng bình thủy tinh có dung tích nhỏ nhất để tránh bay hơi.
6.1.2.6. Dung dịch được chuẩn bị theo quy trình trên có thể dùng được khi độ pH nằm trong phạm vi
đã định và hoạt độ phóng xạ riêng thay đổi khơng q 5 % so với giá trị ban đầu (sau khi hiệu chỉnh
có tính đến sự phân rã).
6.2. Tác nhân tẩy xạ
Nước đã khử khoáng (độ dẫn tối đa là 3 µS/cm) được sử dụng như là tác nhân tẩy xạ cho các thử
nghiệm ở nhiệt độ 23 °C ± 2 °C.

7. Mẫu thử
7.1. Chuẩn bị và thử nghiệm sơ bộ
7.1.1. Độ trơ đối với dung dịch làm sạch
Để tiến hành thử nghiệm sơ bộ, một mẫu thử có ít nhất một mặt phẳng có kích thước thích hợp (xem
7.2) và làm bằng bất kỳ vật liệu thích hợp nào, như các vật liệu kim loại hoặc phi kim loại, hệ thống
bao phủ, lớp phủ sàn nhà. Mẫu thử phải đủ trơ với dung dịch làm sạch; kiểm tra điều này theo quy
trình sau:
a) nhúng một miếng bơng nhỏ vào chất lỏng làm sạch, và đặt lên bề mặt của mẫu thử và đậy lại bằng

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Công ty luật Minh Khuê

www.luatminhkhue.vn

một đĩa Petri;
b) sau khi cho tiếp xúc 10 phút, lấy miếng bông đi và rửa sạch mẫu thử bằng nước;
c) sấy khô mẫu thử trong 1 giờ ở nhiệt độ 40 °C ± 5 °C;
d) quan sát mẫu thử bằng mắt.
Mẫu thử nào có thay đổi một chút về màu sắc và độ bóng thì không dùng để thử nghiệm được.
7.1.2. Mẫu thử bằng vật liệu phi kim loại
Các vật liệu phi kim loại được dùng để thử nghiệm - thí dụ: polyme cao phân tử, thủy tinh, gốm - phải
có bề mặt có chất lượng đặc trưng của những vật liệu được sử dụng trong thực tế.
Nếu mặt sau của mẫu thử xốp hoặc bằng một kim loại khơng được bao phủ thì mặt sau và các cạnh
phải được phủ sao cho dễ tẩy xạ (thí dụ bằng cách sử dụng lớp phủ nhựa epoxy, polyuretan hoặc cao
su clorinat).
Để chuẩn bị mẫu thử với lớp phủ, phải lấy một mẫu đại diện từ vật liệu che phủ cần phải nghiên cứu
và chuẩn bị cho việc thử nghiệm theo các phương pháp của tiêu chuẩn thích hợp.
Vật liệu che phủ phải được đặt lên đầu kẹp hoặc giá đỡ một cách tương tự như khi sử dụng trong

thực tế và phải được xử lý tiếp theo một cách thích đáng; mọi việc xử lý khác, thí dụ như gia nhiệt
thêm, đều khơng được phép.
Thời gian chuẩn bị mẫu thử phải được ghi rõ.
7.1.3. Mẫu thử bằng vật liệu kim loại
Mẫu thử bằng kim loại hoặc với bề mặt kim loại phải được xử lý trước một cách điển hình cho việc sử
dụng trong thực tế. Để che phủ mặt sau và các cạnh, xem 7.1.2.
Độ nhám bề mặt (trị số nhám trung bình) phải được nhà sản xuất xác định và ghi trong bản mô tả vật
liệu dùng làm mẫu thử.
7.2. Số lượng và kích thước
Để tiến hành thử nghiệm, cần phải chuẩn bị 15 mẫu thử giống nhau và trong số đó ít nhất có hai
nhóm gồm 5 mẫu phải được thử nghiệm trong hai phép thử đồng thời.
Chú thích - Những mẫu thử còn lại được dùng cho thử nghiệm sơ bộ theo 7.1 và dùng làm mẫu đối
chứng sau thử nghiệm.
Các mẫu thử phải có kích thước
mm x
mm. Độ dày của mẫu thử phải nằm trong khoảng
từ 1 mm đến 10 mm. Một góc (tốt nhất là góc vng) được đánh dấu bằng một chữ thập gồm hai vết
cạo mảnh ở phía sau của mỗi mẫu thử là góc đối chứng.
Các chiều khác nhau của mẫu thử và điều kiện khác cho việc chuẩn bị cần được ghi rõ trong báo cáo
thử nghiệm.
Chú thích - Các mẫu thử có kích thước khơng lớn hơn 51 mm x 51 mm x 3,5 mm có thể được cất giữ
và vận chuyển bằng congteno bảo quản trượt; nhằm tránh sự tiếp xúc giữa các bề mặt thử nghiệm.
7.3. Điều hòa nhiệt độ và làm sạch
Các mẫu thử phải được giữ trong cơngtenơ mở tại phịng thử nghiệm có khơng khí sạch và khơng ăn
mịn ở 20 °C ± 5 °C không dưới 14 ngày. Yêu cầu này không áp dụng cho những mẫu thử mà bề mặt
thử nghiệm làm bằng gốm hoặc thủy tinh.
Mẫu thử được làm sạch bằng khăn xenlulô mềm. Trước hết cần lau bề mặt thử nghiệm bằng khăn
trên ngâm đẫm trong hỗn hợp làm sạch gồm có ete dầu hỏa (nhiệt độ sôi từ 60 °C đến 80 °C) và
isopropanol (nồng độ tối thiểu là 99 %) với tỷ lệ 1:1 theo thể tích. Lau lại bằng cách dùng một khăn
"hầu như khô". Lau lại lần thứ ba bằng cách dùng một mảnh vải nhúng dẫm trong nước tinh khiết.

Trong mỗi trường hợp tiến hành thao tác lau năm lần theo một chiều trên mẫu, mỗi lần dùng một phần
khác nhau của khăn và chỉ dùng một khăn.
Cuối cùng dùng một cái chai bóp để rửa mẫu thử bằng nước tinh khiết để rửa sạch mọi sợi vải hoặc
mảnh vụn trên bề mặt thử nghiệm. Sau đó sấy khơ mẫu thử theo chiều thẳng đứng ở nhiệt độ 40 °C ±
5 °C trong 1 h.
Ngoài ra các mẫu thử được phủ kín bằng một lớp vật liệu hữu cơ có thể được thử nghiệm mà khơng
cần làm sạch trước, nếu có yêu cầu đặc biệt. Trong những trường hợp này, việc chuẩn bị mẫu phải
được tiến hành bởi trung tâm thử nghiệm với điều kiện không được làm bẩn lên bề mặt được thử

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Công ty luật Minh Khuê

www.luatminhkhue.vn

nghiệm theo sự chỉ dẫn của nhà sản xuất. Nếu bỏ qua giai đoạn làm sạch thì phải ghi vào báo cáo
thử nghiệm.
8. Quy trình
8.1. Xác định tốc độ đếm xung riêng của dung dịch gây nhiễm xạ
Khi gây nhiễm xạ theo quy trình nêu trong 8.2, đổ 100 µl dung dịch gây nhiễm xạ lên từng tấm kính
của ba tấm kính xây dựng có kích thước 50 mm x 50 mm vào điểm trùng với tâm của vết gây nhiễm
xạ. Để làm điều này có thể dùng một dụng cụ định vị hoặc một dụng cụ tương tự. Sau khi để dung
dịch khô ở nhiệt độ tối đa 45 °C, tiến hành đo tốc độ đếm xung của 3 tấm kính bằng thiết bị nêu ở 5.2.
Chú ý - Phải bảo đảm vị trí đo (đặc biệt là khoảng cách từ bề mặt của tấm kính bị nhiễm xạ đến
đầu dị) giống như là vị trí dự định để đo các mẫu thử (xem 8.3.2)
Thời gian đo phải là 1 min đối với mỗi tấm kính. Cần hiệu chỉnh phơng và thời gian chết.
Nhân trung bình cộng của ba kết quả với hệ số 10 sao cho kết quả được biểu thị bằng xung trên phút
trên mililit.
Xác định riêng biệt đối với cả hai dung dịch gây nhiễm xạ.

8.2. Gây nhiễm xạ
Việc gây nhiễm xạ có thể được thực hiện bằng cách sử dụng thiết bị trong hình 2.
Đặt mẫu thử vào dụng cụ định vị (5.7) với góc tham chiếu R như trong hình 3. Đưa các cạnh A và B
của mẫu thử tiếp xúc với đường a và b của dụng cụ định vị, ưu tiên cho sự tiếp xúc B-b. Sau đó ép
mẫu thử sát với phần trên (U) có chứa cao su silicon bằng cách vặn chặt đinh vít cho đến khi mẫu thử
tiếp xúc với phần trên (U) dọc theo tất cả các cạnh.
Gây nhiễm xạ mẫu thử bằng cách cho 1 ml dung dịch gây nhiễm xạ vào tâm của hình trịn có thể nhìn
thấy được qua phần trên (U). Giữ giá kẹp ở vị trí nằm ngang. Trong trường hợp vật liệu bề mặt có độ
kỵ nước cao, chất gây nhiễm xạ khơng lan hết hình trịn thử nghiệm ngay thì có thể nghiêng giá kẹp
để cho chất lỏng lan rộng ra.
Đặt một đĩa Petri nhỏ lên hình tròn thử nghiệm tại miệng của phần trên U để ngăn sự bay hơi của
dung dịch gây nhiễm xạ.
Sau 120 min ± 5 min, dùng một pipet (5.4) hút hết dung dịch. Muốn vậy cần để giá kẹp nằm nghiêng.
Sau đó lộn ngược giá kẹp. Sau khi tháo đinh vít, nâng phần dưới (L) và tiếp đó nâng mẫu thử lên và
tránh không cho dung dịch làm bẩn các phần không bị nhiễm xạ của mẫu thử.
Để tránh bay hơi cần đưa ngay mẫu thử vào buồng khuấy và bắt đầu tẩy xạ ngay sau khi các mẫu đã
được cố định. Tồn bộ q trình lấy mẫu ra khỏi giá kẹp và cố định chúng vào buồng khuấy không
quá 12 min.
8.3. Tẩy xạ
8.3.1. Phương pháp
Để tẩy xạ, cố định năm mẫu thử vào các ngăn của buồng khuấy (5.8) bằng cách dùng băng cao su
mỏng hoặc lò xo (làm bằng thép chống ăn mịn axit).
Để bảo đảm cho diện tích nhiễm xạ của một mẫu thử được định vị ở chính giữa ngăn của buồng
khuấy, góc đối chứng của mẫu thử phải khớp với góc dưới ở phía bên phải của ngăn buồng khuấy.
Đặt các cạnh A và B của mẫu thử lại tiếp xúc với các đường d và e của dụng cụ định vị, ưu tiên cho
tiếp xúc B-e (xem hình 4).
Phải dùng một tấm thép chống ăn mịn axit để đóng ngăn thứ sáu. Tấm thép loại này cũng được dùng
để đỡ các mẫu thử rất mỏng, nếu không bề mặt của chúng sẽ không đủ phẳng.
Ngâm buồng khuấy vào một cốc có mỏ chứa 900 ml ± 20 ml nước đã khử khoáng (6.2) sao cho
buồng khuấy chạm vào đáy cốc (5.1). Nếu sử dụng cốc có mỏ khác với mơ tả trong 5.1, cốc phải

được đổ đầy nước đến mức tối thiểu như trong hình 4. Nhiệt độ ban đầu của nước phải là 23 °C ± 2
°C.
Cho máy khuấy chạy trong 2, 5 min với tốc độ 100 vòng/min ± 5 vòng/min. Thay cốc có mỏ đó bằng
một cốc có mỏ khác đựng nước và cho chạy máy khuấy thêm 10 s nữa. Lấy mẫu thử ra rồi sấy khô
trong tủ sấy ở nhiệt độ 40 °C ± 5 °C.
Chú thích - Nếu thấy cần kiểm tra sự tái nhiễm bởi dung dịch tẩy xạ, tấm thép đậy ngăn thứ sáu có
thể thay bằng mẫu thử không bị nhiễm xạ.

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Công ty luật Minh Khuê

www.luatminhkhue.vn

8.3.2. Xác định tốc độ đếm xung tồn dư
Sau khi sấy khô, đo tốc độ đếm xung của mẫu thử đã tẩy xạ bằng cách sử dụng thiết bị quy định trong
5.2. Hình học đo, tức là khoảng cách và vị trí tương đối của mẫu thử và đầu dò phải giống nhau đối
với tất cả các phép đo (xem 8.1).
Ngay trước khi đo tốc độ đếm xung tồn dư của các mẫu thử, phải đo tần suất xung phông với một
mẫu thử không bị nhiễm xạ.
Mỗi phép đo được tiến hành một lần, có hiệu chỉnh phông và thời gian chết. Phép đo phải tiến hành
tới 5.000 số đếm đã trừ phông hoặc 10 min, tùy theo cách nào có thời gian ngắn nhất.
9. Tính kết quả và đánh giá tính dễ tẩy xạ
Sau khi tẩy xạ, tính (riêng cho 60Co và 137Cs) số trung bình của tốc độ đếm xung tồn dư của năm mẫu
thử đối với mỗi nhóm. Các kết quả phải được tính bằng xung/min và phải được sử dụng để tính tốc
độ đếm xung tồn dư trung bình tiêu chuẩn hóa theo cơng thức sau:
Tốc độ đếm xung tồn
dư trung bình tiêu
chuẩn hóa

=

Tốc độ đếm xung tồn
dư trung bình

3 x 106
x

Tốc độ đếm xung riêng

Việc tính tốn này phải được thực hiện riêng cho 60Co và 137Cs.
Chú thích - Giá trị 3 x 106 xung trên phút trên mililít là giá trị tham chiếu của tốc độ đếm xung riêng của
các dung dịch gây nhiễm xạ mà bảng đánh giá tính dễ tẩy xạ căn cứ vào đó.
Tính kết quả cuối cùng (tức là tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng) là giá trị trung bình của các tốc độ
đếm xung tồn dư tiêu chuẩn hóa của 60Co và 137Cs.
Tính dễ tẩy xạ đánh giá theo bảng này chỉ dùng cho các hạt nhân phóng xạ 60Co và 137Cs.
Bảng - Đánh giá tính dễ tẩy xạ
Tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng (FRP)

Tính dễ tẩy xạ

xung/min
FRP < 3.000

Rất dễ

3.000 ≤ FRP vòng/min < 15.000

Khá dễ

15.000 ≤ FRP < 60.000
60.000 ≤ FRP

Tương đối dễ
Khó

10. Báo cáo thử nghiệm
Báo cáo thử nghiệm bao gồm các thông tin và số liệu được quy định trong phụ lục D. Hình thức trình
bày như phụ lục D có thể được sử dụng làm ví dụ về báo cáo thử nghiệm.
Kích thước tính bằng milimét

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

Hình 2 - Giá kẹp để gây nhiễm xạ mẫu thử
(xem thêm các hình 5 và 6)

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

Hình 3 - Sử dụng giá kẹp để gây nhiễm xạ mẫu thử

(gắn mẫu thử)

Hình 4 - Sử dụng buồng khuấy để tẩy xạ (đặt mẫu thử)

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn
(xem thêm các hình 7 và 16)
Phụ lục A
(quy định)
Giá kẹp để giữ mẫu thử nhiễm xạ
kích thước tính bằng milimet

Hình 5 - Phần dưới L

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

Hình 6 - Phần trên U
Phụ lục B
(quy định)
Buồng khuấy để tẩy xạ

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

Hình 7 - Buồng khuấy - Sơ đồ chung
Chú thích
Số ghi
Số
trên hình hạng
7
mục

Mơ tả

Vật liệu

Hình

1

1

Trụ đỡ buồng khuấy

Thủy tinh acrylic

8

2

6

Vít ren có lỗ đặt chìa vặn sáu cạnh, M3
x12, theo ISO 4762

Thép không rỉ chịu axit

-

3

1

Trục khuấy

Thép không rỉ chịu axit

9

4

1

Ổ bi rãnh sâu xuyên tâm với vịng đệm theo ISO 15

-

(Kích thước: d=10, D=26, B=8)
5

1

Ổ trục của trục khuấy

Thủy tinh acrylic

10

6

1

Giá đỡ ổ bi

Polytetrafluoroethylen
(PTPE)

11

Đường kính lỗ: φ 3,4
Khe hở theo ISO 273
Mũ chìm theo ISO 2009
7

2

Vít có mũ chìm chẻ, M3 x 5, theo ISO 2009 Thép khơng rỉ chịu axit

8

12 Vít có mũ chìm chẻ, M4 x 10, theo ISO
2009

Thép không rỉ chịu axit

9

1

Đĩa lục lăng trên

Thủy tinh acrylic

12

10

6

Bộ phận kết nối

Thép không rỉ chịu axit

13

Đường kính lỗ: φ 4,5
Khe hở theo ISO 273

Mũ chìm theo ISO 2009

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162

-


Cơng ty luật Minh Kh
Số ghi
Số
trên hình hạng
7
mục

www.luatminhkhue.vn
Mơ tả

Vật liệu

Hình

11

2

Vít có mũ chìm dựng và chẻ, M3 x 10, theo Thép không rỉ chịu axit
ISO 2010

12

1

Cánh khuấy

Thép không rỉ chịu axit

14

13

1

Đĩa lục lăng dưới

Thủy tinh acrylic

15

Chú thích - Có thể sử dụng số đo tương đương không thuộc hệ mét cho vít.

Hình 8 - Trụ đỡ buồng khuấy

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162

-


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

kích thước tính bằng milimet

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

Hình 12 - Đĩa lục lăng trên
kích thước tính bằng milimet

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

Kích thước tính bằng milimet

Hình 15 - Đĩa lục lăng dưới
Phụ lục C

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Công ty luật Minh Khuê

www.luatminhkhue.vn
(quy định)

Các công thức chuẩn bị dung dịch làm nhiễm xạ 137Cs và 60Co
Các công thức dưới đây hướng dẫn tính lượng dung dịch gốc phóng xạ và dung dịch chất mang tiêu
chuẩn hóa cần để chuẩn bị một dung dịch gây nhiễm xạ có nồng độ hoạt độ phóng xạ là 0,2 MBq/ml
và 10-5 mol. (khơng gồm hướng dẫn về việc thêm axit nitric).
Thể tích cuối cùng của dung dịch gây nhiễm xạ được yêu cầu, tính bằng ml : r
Hoạt độ phóng xạ cuối cùng của dung dịch gây nhiễm xạ được yêu cầu, tính bằng MBq :
(0,2 MBq/ml) r = 0,2 r
Thể tích dung dịch gốc hạt nhân phóng xạ cần để tạo ra hoạt độ phóng xạ 0,2 MBq/ml trong thể tích
cuối cùng, r
Hoạt độ của dung dịch gốc (theo số liệu của nhà sản xuất), tính bằng MBq/l : s
Thể tích yêu cầu, tính bằng ml dung dịch gốc:
Nồng độ mol cuối cùng của chất mang được yêu cầu, tính bằng mol/l: 10 -5
Nồng độ mol cuối cùng được yêu cầu, tính bằng mol:
10-5 x (r x 10-3) = r x 10-8
Chú thích - Hệ số 10-3 l/ml là hệ số chuyển đổi
Sự đóng góp của dung dịch gốc phóng xạ
Nồng độ chất mang (theo số liệu của nhà sản xuất), tính bằng mol/l: = t
Tổng số mol đóng góp:

Sự đóng góp được yêu cầu của các dung dịch chất mang đã tiêu chuẩn hóa Co(NO3)2 hoặc CsNO3,
tính bằng mol:

Nồng độ chất mang, tính bằng mol/l: u
Thể tích cuối cùng của chất mang đã tiêu chuẩn hóa được yêu cầu để sinh ra dung dịch làm nhiễm
bẩn 10-5 mol/l, tính bằng I dung dịch chất mang:

Phụ lục D

(qui định)
Ví dụ về một báo cáo kết quả
Báo cáo thử nghiệm tính dễ tẩy xạ bề mặt xác định theo ISO 8690
Phòng thử nghiệm:................................................................................................................
Báo cáo thử nghiệm số: .......................................................................................................
______________________________________________________________________
Khách hàng:...........................................................................................................................
Họ và tên:...............................................................................................................................
Địa chỉ:...................................................................................................................................

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162


Cơng ty luật Minh Kh

www.luatminhkhue.vn

______________________________________________________________________
1 Số liệu của người trình mẫu thử nghiệm
1.1 Phác họa về vật liệu và dự kiến sử dụng: (ví dụ: bao EP phủ đáy, bao PUR phủ công - te - nơ)
______________________________________________________________________
1.2 Tên nhà sản xuất vật liệu:...............................................................................................
______________________________________________________________________
1.3 Mô tả vật liệu được thử nghiệm
Mô tả của nhà chế tạo: .........................................................................................................
Màu, độ bóng, độ nhám của bề mặt:....................................................................................
Số liệu chi tiết (ví dụ: độ dầy của phim):...............................................................................
______________________________________________________________________
1.4 Thành phần quan trọng của vật liệu được thử nghiệm (ví dụ: ...độ cứng, dây buộc, chất màu và bộ
lọc)..........................................................................................................................................

______________________________________________________________________
1.5 Số liệu về sự sản xuất và ứng dụng (ví dụ: phương pháp ứng dụng, thời gian và nhiệt độ làm
khơ):.......................................................................................................................................
______________________________________________________________________
1.6 Vật liệu mang và và kích thước của mẫu thử:...............................................................
______________________________________________________________________
1.7 Xử lý trước mẫu thử, nếu cần (xử lý cơ học, nhiệt, hóa học vv ...):
................................................................................................................................................
______________________________________________________________________
1.8 Ngày chuẩn bị mẫu thử:..................................................................................................
______________________________________________________________________
2 Số liệu do người thử nghiệm cung cấp
2.1 Bề ngoài của mẫu thử trước khi thử nghiệm (màu, điều kiện bề mặt, độ bóng, độ nhám bề mặt)
______________________________________________________________________
2.2 Số liệu về thử nghiệm tính dễ tẩy xạ: ............................................................................
2.2.1 Ngày thử nghiệm: ........................................................................................................
2.2.2 Dụng cụ đo:..................................................................................................................
2.2.3 Đầu dị:.........................................................................................................................
2.2.4 Tác nhân gây nhiễm xạ (hạt nhân phóng xạ):.............................................................
______________________________________________________________________
2.3 Kết quả đo
2.3.1 Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình được tiêu chuẩn hóa:........................................
2.3.2 Tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng:............................................................................
______________________________________________________________________
2.4 Đánh giá tính dễ tẩy xạ:..................................................................................................
______________________________________________________________________
………….
Đóng dấu

Ngày...tháng... năm...

LUẬT SƯ TƯ VẤN PHÁP LUẬT 24/7 GỌI 1900 6162

Ký tên