Transistor hiệu ứng trường
MOSFET
Nguyễn Quốc Cường
Bộ môn 3I-HUT
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
3
,
Giới thiệu
«
«
MOSFET:
Metal-Oxide Semiconductor Field Effect Transistor
MOSFET được sử dụng nhiều trong cơng nghệ chế tạo IC
-
Kích thước nhỏ
-_ Cơng suất tổn hao thấp
-_
Giá thành thấp
„
Chế tạo IC tương tự và số có độ tích hợp cao
«
MOSFET
+
có 2 kiểu
-_
Enhancement
MOSFET
(được sử dụng nhiều)
-
Depletion MOSFET
-
Chung ta sé xem xét Enhancement
MOSFET
M6t tén khac cua MOSFET la IGFET (Insulated-gate FET)
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
3
4
Cấu trúc
Oxide (SiO;)
Soure
region
Source (S)
Gate (G)
Oxide (SiO2)
(thickness = 1,,)
Channel
region
——+:—
p-type substrate
p-type substrate
(Body)
(Body)
Channel
region
Drain region
(a)
Body
(B)
(b)
N-channel enhancement-type MOSFET (goi tat n- MOSFET)
Thường L = 0.1 dén 3um, W=0.2 dén 100 pum, tox = 2 đến 50nm
Transistor hiéu tng trường
Nguyễn Quốc Cường
Drain (D)
«
MOSFET co 3 cuc
-
Cuc G (Gate)
-
Cuc D (Drain)
-
Cuc S (Source)
„ _ Do lớp oxide chắn giữa cực G nên dòng cực gate là rất nhỏ
(cỡ 10-15A)
«
„
MOSFET là thiết bị đối xứng,có nghĩa là cực D và S có thể
thay đổi vai trị của nhau mà khơng làm thay đổi đặc tính
của MOSFET
Khi khơng có điện thế phân cực cho G, thì giữa D và S coi
như 2 diode mắc ngược nhau > nếu có điện áp giữa S và D
thì sẽ khơng tạo ra dịng điện > điện trở lớn (cỡ 10120)
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
›
4
Hình thành kênh dẫn trong n-MOS
+
Gate electrode
Induced
n-type
channel
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
« Cực Body, D và S nối đất
« _ Cực G được cung cấp một điện áp dương:
«
«
-_
-_
Các lỗ trống gần cực G sẽ bị đẩy ra xa
Các e của bán dẫn n+ từ S và D sẽ bị kéo vào cực G
-_
số e tập trung ít
-_
nhiều điện tử được tâp trung trong vùng dưới cực G
Nếu vẹs nhỏ:
-_ chưa hình thành kênh dẫn
Khi vạs tăng:
-_ hình thành kênh dẫn n (n-MOSFET)
-_ điện áp tạo đó hình thành kênh dẫn được gọi là điện áp
ngưỡng V, (thường từ 0.5V đến 1.0V)
- Độ sâu của kênh dẫn tỉ lệ với điện áp giữa điện thế cực G và
điện thế của kênh dẫn
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
v
4
Vung triode - vp, nho
Transistor hiệu ứng trường.
Nguyễn Quốc Cường
3
ý
« _ Thiết lập điện áp vọs nhỏ (cỡ 50mV):
-_
+
Các điện tử dịch chuyển từ S đến D -> tạo ra dòng i„ (chiều từ
D đến S)
Dong ip
-_
phụ thuộc vào nồng độ điện tử tập trung trong kênh dẫn, đại
lượng này lại phụ thuộc vào vẹs
-_ phụ thuộc vào vps
„_
Thực tế khi vụs nhỏ, dịng i; tỉ lệ tuyến tính với (ves - Vị)
cũng như vụs --> được coi như là điện trở (Rps) được điều
khiển bằng điện áp vọs
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
3
4
ip (MA)
04
tgs = V, + 2V
03
ves = V, + 15V
02
ves =V,+1V
01
vos = V, + 0.5V
ves < V;
0
Transistor hiệu ứng trường.
Nguyễn Quốc Cường
L
50
L
100
L
150
/,
200
vps (mV)
3
Hoạt động của MOSFET khi vạs lớn
«_
Giữ Vẹs = const ( > V,) va tang Ves
+
Dọc theo kênh dẫn từ
S đến D,:
+ điện áp thay đổi từ 0
đến vụs
» điện áp so với cực G
tăng từ Veg dén (Veg —
Vps)
> độ sâu của kênh
n-channel
p-type substrate
Transistor hiéu tng trường
Nguyễn Quốc Cường
dẫn sẽ có hình thang :
nở rộng tại S và thu
nhỏ tại D
v
4
Dọc theo kênh dẫn từ S đến D,:
-_ điện áp thay đổi từ 0 đến vDS
- điện áp so với cực G tăng
từ vẹs đến (vGS - vDS)
độ sâu của kênh dẫn sẽ có hình thang : nở rộng tại S và
thu nhỏ tại D
Nếu tiếp tục tăng vụs
«
dong dién i, tang
*
Vep Sẽ giảm kênh dẫn sẽ tiếp tục bị bóp nhỏ lại ở gần cực D >
điện trở tăng lên theo
Vps tăng đến giá trị mà tai D điện thế giảm đến vạp = Vị, >
độ sau kênh dẫn bằng D sẽ bằng 0 > điểm pinched-off
Tai pinched-off: dòng điện hầu như không tăng khi vụs tiếp
tục tăng
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
v
4
ip-Vps của e-NMOS khi vẹs > V,
tp
I<— Triodecee
Saturation —————>-
ts < ves — Vi
Curve bends because
the channel resistance
ups = ves — Vi
Sy
increases with wps5
Current saturates because the
channel is pinched off at the
drain end, and vps no longer
affects the channel.
Almost a straight line
with slope proportional
to (vgs — V,)
tes > V,
0
Transistor hiệu ứng trường.
Nguyễn Quốc Cường
Đpssu = Yas — Vr
Ups
3
Chế độ làm việc của MOSFET
._ Kênh dẫn chỉ hình thành khi vạs > Vị,
- Khi vps < (Ves-V,) > dòng điện ip tỉ lệ thuận với vps và vạs >
vùng điện trở điều khiển (hay vùng triode)
- Khi vs > (vas-V,) dịng điện khơng tăng khi vp„ tăng - vùng
bão hòa
(
Ups
=
—
vas
—
V,
esos
Ups
Source
Channel
Drain
L
Độ sâu của kênh dẫn khi Veg = const, va Vpg tang
Transistor hiéu ting trường
Nguyễn Quốc Cường
Ups
= 0
3
,
Dịng điện ip
«_
«
Khi vs < Vị dịng ïp > 0 (vùng cut-off)
Khi vẹs > V,,, dịng điện i; được tính theo công thức
i, =k, TS
.
1,.W
in = 5Kn 7 (Ves
—V,)Vps — ; v3
Me)
( vung triode )
ung
(vùng
bão hòa
)
k„: tham số hỗ dẫn q trình (phụ thuộc vào cơng nghệ sản xuất MOSFET)
(đơn vị : A/V2)
W: chiều rộng kênh dẫn
L: chiều dài kênh dẫn
WIL : tis6é hinh dang cla MOSFET (aspect ratio)
(Với công nghệ của năm 2003, L,,,, = 0.13m, W„„, = 0.16m, bề dày lớp oxide
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
3
4
MOSFET
kênh P (PMOS)
„
Chế tạo trên một đế bán dẫn kiểu n, cực D và S là các vùng
«_
Thiết bị hoạt động giống như NMOS,
p+
„_
Vps có giá trị âm
Điện áp ngưỡng V, cũng có gía trị âm
„
Dịng điện vào từ S ra ở D
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
ngoại trừ rằng vạs và
3
,
CMOS
« _ Được sử dụng nhiều trong cơng nghệ chế tạo IC (cả tương
tự và số)
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
3
,
Ký hiệu NMOS
=—] |
(a)
c..
._
Lo
_.
TL
(b)
op
(c)
|
Ký hiệu NMOS
Một kiểu ký hiệu khác cla NMOS
Ký hiệu rút gọn trong trường hợp cực B (body) được nối với S
hoặc trong trường hợp hiệu ứng của Body là nhỏ có thể bỏ qua
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
3
,
Ký hiệu PMOS
cop on =
(a)
oe ft
n
on
§
ọ
on
(b)
a.
Ký hiệu PMOS
b.
Một cách ký hiệu khác của PMOS
c.
Trong trường
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
oof
hợp B nối với S
3
,
Đường cong đặc tính ip - Vps
ip (mA)
ig =0
4
in}
+
oa
Gs “SE”
==
piss io
ups
es
(a)
Ups (V)
ugs = V, (cutoff)
Transistor hiệu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
mơ hình tín hiệu lớn của NMOS trong vùng bão hòa
ig =0
—
ip
<_
sy
Transistor hiéu ứng trường
Nguyễn Quốc Cường
D
a
}