Tóm tắt Luận án tiến sĩ Kỹ thuật: Nghiên cứu ảnh hưởng của một số thông số công nghệ đến cơ tính của lớp phủ cho khuôn đúc áp lực hợp kim nhôm - kẽm

MỞ ĐẦU
1. Lý do lựa chọn đề tài luận án
Các lớp phủ cứng (hard coatings) chế tạo từ vật liệu Crôm (Cr) hay
Titan (Ti) được sử dụng làm lớp bảo vệ các bề mặt khỏi sự cào xước,
mài mòn nhằm tăng tuổi thọ của chi tiết máy và cơ khí. Lớp phủ bằng
CrN và TiN đều có độ cứng cao (1800  2100 HV) có khả năng chống
mài mòn tốt, hầu như không chịu ảnh hưởng bởi môi trường hóa học,
với hệ số ma sát tương đối nhỏ (~0,45). Một ưu điểm nổi bật của lớp
phủ CrN là khả năng chịu nhiệt cao. Trong khi lớp phủ TiN chỉ làm
việc an toàn ở nhiệt độ 400  450 0C, lớp phủ CrN có thể làm việc
được ở mức 700  750 0C.
Trên thế giới hiện nay, lớp phủ cứng được sử dụng trong chế tạo
khuôn mẫu để tăng cao tuổi thọ, tăng chất lượng sản phẩm. Tuy nhiên,
các kết quả nghiên cứu được công bố hầu hết tập trung vào các tính
năng cơ bản của lớp phủ trên vật liệu nền và trong điều kiện phòng thí
nghiệm. Công nghệ chế tạo các lớp phủ cứng từ vật liệu Crôm lên bề
mặt khuôn mẫu là bí quyết riêng của các công ty và không được công
bố.
Đối với nước ta, chế tạo khuôn mẫu là ngành công nghiệp công
nghệ cao, có giá trị gia tăng cao, có tầm ảnh hưởng lớn đối công nghiệp
cơ khí chế tạo và phụ trợ, và với sự phát triển kinh tế xã hội nói chung.
Hầu hết những loại khuôn có độ chính xác cao sử dụng trong công
nghiệp phụ tùng ô tô, xe máy … các doanh nghiệp đều phải nhập ngoại
với giá thành lên tới hàng trăm triệu đồng/bộ.
Các nghiên cứu trước đây đã tiến hành chủ yếu tập trung vào lớp
phủ cứng nitrit trên cơ sở vật liệu Titan và Crôm trên nền thép dụng
cụ với đặc điểm: lớp phủ có độ cứng cao, hệ số ma sát nhỏ, giảm mòn
do ma sát không hình thành lẹo dao khi gia công… Khả năng ứng dụng
các lớp phủ cứng cho khuôn đúc áp lực nhằm nâng cao tuổi bền, giảm
ma sát mài mòn, và chống bám dính cho bề mặt còn để ngỏ, trong khi
khuôn đúc áp lực chiếm tỷ phần sản phẩm lớn, thị phần cao tại Việt

Nam trong lĩnh vực dân sự và quốc phòng an ninh.
Do đó đề tài “Nghiên cứu ảnh hưởng của một số thông số công
nghệ đến cơ tính của lớp phủ cho khuôn đúc áp lực hợp kim nhôm kẽm”với kỳ vọng nâng cao chất lượng sản phẩm và tuổi bền của khuôn
đúc từ thép SKD61, đồng thời tìm ra được bộ thông số công nghệ tối
ưu để chế tạo lớp phủ TiN và CrN trên bề mặt khuôn đúc áp lực hợp
1


kim nhôm - kẽm.
2. Mục tiêu, đối tượng, phương pháp và phạm vi nghiên cứu
- Mục tiêu nghiên cứu của đề tài:
+ Nghiên cứu công nghệ PVD nhằm tạo lớp phủ CrN, TiN trên chốt
trong khuôn làm từ vật liệu SKD61.
+ Tối ưu hóa ba thông số công nghệ chính khi chế tạo lớp phủ CrN
cho chốt trên khuôn đúc áp lực nhôm - kẽm là lưu lượng khí N2, tần số
xung và nhiệt độ đế.
+ Áp dụng kết quả nghiên cứu vào thực tiễn sản xuất.
- Đối tượng nghiên cứu:
+ Nghiên cứu công nghệ chế tạo lớp phủ cứng bằng phương pháp
phún xạ xung một chiều magnetron và phương pháp hồ quang chân
không.
+ Tạo lớp phủ CrN, TiN trên chốt trong khuôn đúc áp lực hợp kim
nhôm - kẽm.
- Phương pháp nghiên cứu:
Kết hợp ứng dụng lý thuyết và thực nghiệm kiểm chứng.
- Phạm vi nghiên cứu:
+ Nghiên cứu chế tạo lớp phủ cứng đơn lớp và đa lớp từ CrN, TiN
trên chốt trong khuôn đúc áp lực bằng phương pháp PVD.
+ Thông số công nghệ chế tạo lớp phủ lưu lượng khí N2, tần số
xung và nhiệt độ đế khi chế tạo lớp phủ CrN cho chốt trên khuôn đúc

áp lực.
+ Đánh giá các chỉ tiêu tính chất của lớp phủ trong phòng thí
nghiệm và thực tiễn sản xuất.
3. Ý nghĩa khoa học và thực tiễn của đề tài
3.1. Ý nghĩa khoa học
- Xây dựng quy trình công nghệ tạo lớp phủ cứng CrN và TiN trên
chốt tạo lỗ trong khuôn đúc áp lực bằng phương pháp PVD là cơ sở
khoa học để nghiên cứu phát triển tạo lớp phủ bằng công nghệ này.
- Xây dựng được phương trình hồi quy thực nghiệm tạo lớp phủ
CrN đã chỉ ra mức độ ảnh hưởng lớn nhất của lưu lượng khí tiếp theo
là tần số xung và nhiệt độ đế.
3.1. Ý nghĩa thực tiễn
- Đưa công nghệ chế tạo lớp phủ CrN, TiN trên chốt trong khuôn
đúc áp lực hợp kim nhôm - kẽm có thể là cơ sở áp dụng vào khuôn
đúc áp lực khác nhau.
- Phương trình hồi quy thực nghiệm xây dựng được có thể dùng để
2


lựa chọn thông số công nghệ chế tạo lớp phủ trên chốt trong khuôn
đúc áp lực phù hợp điều kiện sản xuất.
- Quy trình công nghệ chế tạo lớp phủ CrN, TiN trong luận án có
thể làm tài liệu tham khảo cho nghiên cứu và trong giảng dạy.
4. Những kết quả mới
- Đã xây dựng được công nghệ tạo lớp phủ cứng CrN, TiN trên
chốt trong khuôn đúc áp lực sản phẩm nhôm - kẽm.
- Đã tối ưu hóa ba thông số công nghệ chính tạo lớp CrN bằng
phương pháp phún xạ xung một chiều magnetron là lưu lượng khí N2
= 7,23 cm3/phút, tần số xung = 120,5 kHz và nhiệt độ đế = 294,6 0C
trên cơ sở hai phương trình hồi quy thực nghiệm.

- Đã đánh giá các thông số của lớp phủ: độ cứng, hệ số ma sát,
chiều dày, hợp thức, cấu trúc tinh thể, ứng suất dư mặt tinh thể tương
ứng với các chế độ công nghệ khác nhau của hai phương pháp chế tạo
phún xạ và hồ quang chân không.
- Đã áp dụng kết quả của luận án vào thực tiễn sản xuất phủ lớp
CrN, TiN trên chốt tạo lỗ trong khuôn đúc áp lực hợp kim nhôm - kẽm.
5. Bố cục của luận án
Luận án gồm 4 chương:
Chương 1. Tổng quan về khuôn đúc áp lực và phương pháp chế tạo
lớp phủ cứng.
Chương 2. Xây dựng quy trình công nghệ chế tạo lớp phủ CrN và TiN
trên chi tiết thép SKD61.
Chương 3. Tối ưu thông số công nghệ chế tạo lớp phủ CrN và TiN
trên chi tiết SKD61.
Chương 4. Áp dụng kết quả của luận án vào thực tiễn sản xuất và đánh
giá chất lượng.
CHƯƠNG 1. TỔNG QUAN VỀ KHUÔN ĐÚC ÁP LỰC VÀ
PHƯƠNG PHÁP CHẾ TẠO LỚP PHỦ CỨNG
1.1. Đặt vấn đề
Nghiên cứu chế tạo và sử dụng lớp phủ cứng nhằm nâng cao tuổi
bền và chất lượng khuôn mẫu thực sự là một nhu cầu cấp thiết và mang
lại hiệu quả kinh tế xã hội lớn.
1.2. Đúc áp lực
Điều kiện làm việc của khuôn đúc áp lực
Trong đúc nhôm áp lực, nhôm nóng chảy ở nhiệt độ 670  710 0C
được phun vào khuôn, ở vận tốc từ 30 đến 100 m/s, với áp lực phun là
từ 50 đến 80 MPa. Bề mặt khuôn chịu tác động cơ, nhiệt tác động và
3

dòng kim loại nóng chảy là nguyên nhân gây ra: (a) mỏi cơ, nhiệt, bởi
tác động nhiệt trên bề mặt của khuôn; (b) ăn mòn và hàn dính do quá
trình oxy hóa nhôm với bề mặt khuôn (c) xói mòn do dòng kim loại
lỏng; (d) hỏng khốc liệt do sốc nhiệt; (e) nhiệt làm nóng vật liệu khuôn,
làm cho tính chất cơ học bất ổn.
Mô hình lớp phủ ứng dụng cho khuôn đúc áp lực
Mô hình lớp phủ tối ưu với độ dày lớp phủ thiết kế từ 5  8 μm,
bao gồm:
- Biến đổi bề mặt nền: thấm nitơ bề mặt thép khuôn để tăng độ cứng
của nền và tăng khả năng hỗ trợ cơ học cho lớp phủ.
- Lớp dính bám: một lớp Cr hoặc Ti mỏng (100  200 nm) để tăng
độ dính bám của lớp phủ lên bề mặt nền.
- Lớp trung gian: thay đổi liên tục từ lớp dính bám đến lớp làm việc
để tạo điều kiện điều tiết các ứng suất nhiệt dư được tạo ra bởi quá
trình đúc.
- Lớp làm việc: lớp làm việc có khả năng chống mòn tốt, chống
oxy hóa và phải trơ hóa học (không thấm ướt) với nhôm.
1.3. Phương pháp chế tạo lớp phủ cứng
Để tạo các lớp phủ cứng có gốc kim loại lên đế kim loại thì phương
pháp phún xạ một chiều magnetron lại có ưu thế hơn cả về phương
diện kinh tế và phương pháp công nghệ. Tuy nhiên, đây là phương
pháp có mức độ ion hoá thấp, phân bố không gian của plasma phụ
thuộc nhiều vào từ trường của đầu magnetron.
Phương pháp hồ quang chân không cho tốc độ tạo lớp phủ nhanh,
tuy nhiên nhược điểm lớn nhất là tạo hạt macro trên bề mặt, ảnh hưởng
đến độ đồng đều và cấu trúc lớp phủ.

Hình 1.34. Sơ đồ nguyên lý của một
hệ phún xạ DC magnetron

Hình 1.36. Sơ đồ phương pháp
hệ hồ quang chân không

Kết luận chương 1
1. Đã tổng quan về cấu tạo, cơ chế hoạt động và các dạng hư hỏng
4


của khuôn đúc áp lực.
2. Đã phân tích tình hình nghiên cứu trong và ngoài nước về
phương pháp PVD tạo lớp phủ cứng trên chi tiết từ đó đã chỉ ra một
số kinh nghiệm phụ vụ cho nghiên cứu của đề tài. Nghiên cứu tạo lớp
phủ cứng trên chốt bằng phương pháp PVD cần được nghiên cứu tại
nước ta.
3. Đã phân tích được điều kiện làm việc của chốt tạo lỗ sản phẩm
trong khuôn và chỉ ra được nguyên nhân các dạng hỏng từ đó đã đề
xuất được giải pháp nâng cao tuổi thọ chốt bằng tạo lớp phủ cứng CrN
và TiN bằng phương pháp PVD.
CHƯƠNG 2. XÂY DỰNG QUY TRÌNH CÔNG NGHỆ CHẾ
TẠO LỚP PHỦ CrN VÀ TiN TRÊN CHI TIẾT THÉP SKD61
2.1. Quy trình công nghệ chế tạo lớp phủ

Hình 2.1. Sơ đồ quy trình công nghệ chế tạo lớp phủ

2.2. Quá trình chế tạo lớp phủ CrN bằng phương pháp phún xạ
2.2.5. Tăng cường khả năng bám dính của lớp phủ CrN với nền thép
SKD61
Thông số chế tạo lớp chuyển tiếp (dính bám) Cr được lựa chọn khi
chế tạo lớp phủ CrN trên nền thép SKD61 bằng phương pháp phún xạ
xung một chiều magnetron như sau:

5


- Độ chân không buồng: 6x10-2 Pa
- Khoảng cách bia-mẫu: 100 mm
- Lưu lượng khí Argon: 10 cm3/phút
- Điện áp nguồn xung một chiều 350 V
- Dòng phún xạ: 1 A
- Thiên áp đế: -150 V
- Thời gian lắng đọng: 10 phút
2.2.4.2. Xác định bộ thông số công nghệ chế tạo lớp phủ CrN bằng
phương pháp phún xạ xung một chiều magnetron
Từ các thông số thiết bị, điều chỉnh các thông số và ảnh hưởng các
thông số đến quá trình chế tạo lớp phủ CrN trên nền thép SKD61 xác
định giới hạn phạm vi điều chỉnh, khảo sát ảnh hưởng của các thông
số đến tính chất lớp phủ CrN trong Bảng 2.1.
Bảng 2.1. Thông số công nghệ chế tạo lớp phủ CrN trên nền thép SKD61
(Nacentech)

6


2.3. Công nghệ chế tạo lớp phủ TiN và CrN bằng phương pháp hồ
quang chân không
2.3.2.2. Xác định thông số công nghệ chế tạo lớp phủ TiN
Quy trình chế tạo lớp phủ TiN với các thông số công nghệ tối ưu
của thiết bị Dreva Arc 400-VTD được áp dụng cho lắng đọng lớp phủ
TiN trên nền thép SKD61 trong Bảng 2.2.
Bảng 2.2. Thông số công nghệ chế tạo lớp phủ TiN trên nền thép SKD61 sử
dụng thiết bị chân không Dreva Arc 400-VTD (Nacentech)

7


2.3.3. Áp dụng bộ thông số công nghệ tối ưu của lớp phủ TiN để chế
tạo lớp phủ CrN trên nền thép SKD61
Bảng 2.3. Thông số công nghệ chế tạo lớp phủ CrN trên nền thép SKD61 sử
dụng thiết bị chân không Dreva Arc 400-VTD (Nacentech)

Kết luận chương 2
1. Xây dựng được quy trình công nghệ tạo lớp phủ cứng CrN trên
chi tiết chốt trong khuôn từ vật liệu SKD61 bằng phương pháp phún
xạ xung một chiều magnetron.

8


2. Trên cơ sở công nghệ tổng quát của các nhà khoa học trong nước
và trên thế giới đã xây dựng được quy trình công nghệ nghệ cụ thể tạo
lớp phủ CrN và TiN trên chốt trong khuôn (vật liệu SKD61) bằng
phương pháp hồ quang chân không.
3. Xây dựng được bộ thông số công nghệ (lưu lượng khí N2, tần số
xung và nhiệt độ đế) tạo lớp phủ trên chi tiết chốt trong khuôn trên cơ
sở công nghệ PVD.
4. Trên cơ sở lý thuyết về công nghệ tạo lớp phủ CrN, TiN được sử
dụng để thiết lập cơ sở nghiên cứu thực nghiệm trong chương 3 và
chương 4.
CHƯƠNG 3. TỐI ƯU THÔNG SỐ CÔNG NGHỆ CHẾ TẠO
LỚP PHỦ CrN VÀ TiN TRÊN CHI TIẾT SKD61
3.1. Khảo sát ảnh hưởng các thông số công nghệ chế tạo lớp phủ

CrN bằng phương pháp phún xạ một chiều trên thiết bị chân
không B30-VTD
3.1.2. Xác định chiều dày và tốc độ lắng đọng lớp phủ CrN
Bảng 3.1. Kết quả thực nghiệm ảnh hưởng của lưu lượng khí N2 và tần số
xung đến chiều dày và tốc độ lắng đọng của lớp phủ CrN trên nền thép
SKD61 (Nacentech)
Chiều dày lớp phủ CrN
Tốc độ lắng đọng CrN
Lưu lượng
(m)
(m/phút)
khí N2
Tần số xung (kHz)
Tần số xung (kHz)
3
(cm /phút)
50
100
150
50
100
150
4
7,1
5,7
5,2
0,079
0,063
0,058
6

6,9
4,5
4,5
0,077
0,050
0,050
8
6,7
4,3
4,2
0,074
0,048
0,047

Tốc độ lắng đọng lớp phủ CrN trên nền thép SKD61 giảm khi tăng
lưu lượng khí N2 từ 4  6 cm3/phút và tần số xung từ 50  150 kHz
tương ứng với tốc độ lắng đọng 0,079  0,047 m/phút. Ảnh hưởng
chủ yếu đến tốc độ lắng đọng lớp phủ là tần số xung và lưu lượng khí
từ đó xét vùng ảnh hưởng tần số xung từ 50  150 kHz và lưu lượng
khí từ 4  8 cm3/phút. Tuy nhiên đây là một khoảng lớn và điều chỉnh
khó nên tìm điểm tối ưu hoặc thu hẹp khoảng điều chỉnh là yêu cầu
cần phải nghiên cứu.
3.1.3. Cấu trúc lớp phủ
- Lớp phủ chế tạo bằng phương pháp phún xạ xung một chiều
magnetron có cấu trúc tinh thể định hướng chủ yếu theo mặt (200).
Định hướng cấu trúc mặt tinh thể phụ thuộc chủ yếu vào sự thay đổi
9


của tần số xung.

- Trong khảo sát cấu trúc tinh thể lớp phủ CrN trên nền thép SKD61
cho thấy: ở lưu lượng khí 6 cm3/phút và tần số xung 100 kHz định
hướng mặt tinh thể lớp phủ theo mặt (200) rõ ràng.

(a) N2 = 4 (cm3/phút), (b) N2 = 6 (cm3/phút), và (c) N2 = 8 (cm3/phút)

Hình 3.5. Kết quả thực nghiệm đo phổ nhiễu xạ XRD lắng đọng lớp phủ
CrN trên nền thép SKD61 với lưu lượng khí N2 và tần số xung (f) khác nhau

3.1.4. Độ cứng lớp phủ
Bảng 3.4. Kết quả thực nghiệm đo độ cứng lớp phủ CrN trên nền thép
SKD61 với lưu lượng khí N2 và tần số xung thay đổi (Nacentech)
Lực thử
(mN)

Lưu lượng
khí N2
(cm3/phút)

Độ cứng (HV)
Tần số xung (kHz)

825
825

4

50
2406,25

100
2175,18

150
2269,80

6

2320,97

2128,72

1960,59

825

8

2042,70

1883,34

1921,96

Bảng 3.4 cho thấy ảnh hưởng của tần số xung và lưu lượng khí N2
đến độ cứng lớp phủ CrN trên nền thép SKD61 theo quy luật giảm ở
lưu lượng khí 6 cm3/phút (với thay đổi tăng tần số xung) và ở tần số
xung 100 kHz (với thay đổi tăng lưu lượng khí N2).
Từ Bảng 3.5 cho thấy ảnh hưởng của tần số xung và nhiệt độ đế
đến độ cứng lớp phủ CrN trên nền thép SKD61. Ở nhiệt độ đế không

đổi là 100 0C độ cứng tăng khi tần số xung tăng 50  150 kHz, ở 200
0
C độ cứng tăng sau đó giảm xuống khi tần số xung tăng 50  150
kHz, ở 300 0C độ cứng giảm sau đó tăng lên khi tần số xung tăng 50 
150 kHz.

10


Bảng 3.5. Kết quả thực nghiệm đo độ cứng lớp phủ CrN trên nền thép
SKD61 với tần số xung và nhiệt độ đế thay đổi (Nacentech)
Độ cứng (HV)

Tần số
xung
(kHz)

Lực thử
(mN)

Nhiệt độ đế (0C)

825
825

50

100
2075,17

200
2042,70

300
2320,97

100

2105,17

2128,72

1883,34

825

150

2128,72

1921,96

1960,59

Bảng 3.6. Kết quả thực nghiệm đo độ cứng lớp phủ CrN trên nền thép
SKD61 với lưu lượng khí N2 và nhiệt độ đế thay đổi (Nacentech)
Lực thử
(mN)

Lưu lượng

khí N2
(cm3/phút)

Độ cứng (HV)
Nhiệt độ đế (0C)

825
825

4

100
2175,18

200
2269,80

300
2128,72

6

1960,59

2128,72

2078,15

825

8

1710,52

1883,34

2042,70

Độ cứng cao có thể nhận được ở tần số xung thấp như bảng 2.5, độ
cứng không ổn định khi tăng nhiệt độ đế đến 300 0C.
Từ bảng 3.6 cho thấy ảnh hưởng của lưu lượng khí và nhiệt độ đế
đến độ cứng lớp phủ CrN trên nền thép SKD61. Với nhiệt độ không
đổi ở 100, 200, 300 0C, độ cứng lớp phủ CrN có xu hướng giảm khi
tăng lưu lượng khí N2 từ 4 8 cm3/phút. Khi lưu lượng khí N2 không
đổi, ở các giá trị 4 và 6 cm3/phút khi tăng nhiệt độ đế độ cứng lớp phủ
CrN có xu hướng tăng sau đó giảm xuống; tuy nhiên ở lưu lượng khí
N2 là 8 cm3/phút độ cứng lớp phủ tăng khi nhiệt độ tăng.
3.1.5. Ứng suất mặt tinh thể
Khảo sát ứng suất mặt tinh thể (200) của lớp phủ CrN chế tạo trên
thép SKD61 thông qua phổ nhiễu xạ XRD
Ứng suất lớp phủ tính theo đỉnh nhiễu xạ X-RD theo công thức
(3.2):

f 

E

 d  d0 

2

d0

(3.2)

Trong đó: f ứng suất theo mặt tinh thể, E mô đun đàn hồi, d
11


khoảng cách mạng không có ứng suất, d0 khoảng cách mạng chứa ứng
suất,  hệ số Poisson.
Bảng 3.8. Kết quả thực nghiệm đo ứng suất mặt tinh thể (200) của lớp phủ
CrN trên nền thép SKD61 với lưu lượng khí N2 và tần số xung thay đổi
(Nacentech)
Ứng suất mặt (200) (GPa)
Lưu lượng khí
Tần số xung (kHz)
N2 (cm3/phút)
50
100
150
4
0,48
0,48
6
- 0,97
- 3,87
- 4,11
8
- 1,93

- 3,14
Bảng 3.9. Kết quả thực nghiệm đo ứng suất mặt tinh thể (200) của lớp phủ
CrN trên nền thép SKD61 với lưu lượng khí N2 và nhiệt độ đế thay đổi
(Nacentech)
Ứng suất mặt (200) (GPa)
Lưu lượng khí
Nhiệt độ đế (0C)
N2 (cm3/phút)
100
200
300
4
0,48
-1,93
0,48
6
-0,97
-3,87
-4,11
8
-2,18
-1,21
-1,93
Bảng 3.10. Kết quả thực nghiệm đo ứng suất mặt tinh thể (200) của lớp phủ
CrN trên nền thép SKD61 với tần số xung và nhiệt độ đế thay đổi
(Nacentech)
Ứng suất mặt (200) (GPa
Tần số xung
Nhiệt độ đế (0C)
(kHz)

100
200
300
50
-0,97
-1,21
-0,97
100
0,48
-3,87
0,48
150
-0,73
0,48
-4,11

- Ứng suất mặt (200) của lớp phủ CrN chế tạo bằng phương pháp
phún xạ xung một chiều magnetron chủ yếu là ứng suất nén dư, phụ
thuộc vào lưu lượng khí N2 đưa vào trong quá trình lắng đọng.
- Trong nghiên cứu lớp phủ CrN trên nền thép SKD61, ứng suất
mặt tinh thể (200) được xác định. Ứng suất mặt (200) thay đổi phụ
thuộc vào sự thay đổi của cả 3 thông số là lưu lượng khí N2, tần số
xung và nhiệt độ đế.
12


3.1. Tối ưu hóa các thông số công nghệ chế tạo lớp phủ CrN trên
nền thép SKD61 bằng thiết bị B30-VTD
3.1.1. Quy hoạch thực nghiệm bậc hai trực giao
Chọn các yếu tố ảnh hưởng chính

- Z1: Tần số xung: với khoảng khảo sát từ 50 đến 150 (kHz)
- Z2: Lưu lượng khí N2: với khoảng khảo sát từ 4 đến 8 (cm3/phút)
- Z3: Nhiệt độ đế thép SKD61: với khoảng khảo sát từ 100 đến 300
(0C)
- Hàm mục tiêu được chọn là độ cứng và ứng suất mặt tinh thể
(200) của lớp phủ CrN lắng đọng trên nền thép SKD61.
Thực hiện quy hoạch thực nghiệm bậc hai trực giao
Phương trình hồi quy có dạng:
= +
+
+
+
+
+
(3.4)
+

(

− ̅ )+

(

− ̅ )+

(

− ̅ )

Mức cơ sở và khoảng biến đổi:

= (Z1max + Z1min)/2 = (150 + 50)/2 = 100 kHz
= (Z2max - Z2min)/2 = (8 + 4)/2 = 6 cm3/phút
= (Z3max + Z3min)/2 = (300 + 100)/2 = 200 0C
Z1 = (Z1max - Z1min)/2 = (150 - 50)/2 = 50 kHz
Z2 = (Z2max - Z2min)/2 = (8 - 4)/2 = 2 cm3/phút
Z3 = (Z3max - Z3min)/2 = (300 - 200)/2 = 100 0C
Từ phương trình 3.4 thu được ma trận thực nghiệm kế hoạch bậc
hai trực giao với k = 3. Phương trình hồi quy (3.4) có dạng:
= 2056.011 − 54.271 − 181.375 − 68.218
(3.15)
độ ứ
ứ

ấ

+ 51.923
+ 49.967( − 0,73)
− 64.336( − 0,73) + 48.359( − 0,73)
= −1,682 − 0,814 − 0,323 − 0,086 + 0,489
+ 1,398( − 0,73) + 1,591( − 0,73)
+ 0,524( − 0,73)

(3.16)

Đối với độ cứng: Mô hình (3.15) tương hợp với thực tế. Mô hình
hóa dạng 3D độ cứng lớp phủ chịu ảnh hưởng bởi các thông số công
nghệ chế tạo tần số xung, lưu lượng khí N2, và nhiệt độ đế thể hiện
trên hình 3.12, 3.13 và 3.14.
Từ các mô hình 3D ảnh hưởng của các thông số công nghệ chế tạo
tần số xung, lưu lượng khí N2, và nhiệt độ đế đến độ cứng lớp phủ CrN

xác định được tác động rõ ràng nhất khi thay đổi nhiệt độ đế và lưu
lượng khí N2. Vùng thay đổi thông số công nghệ trong khoảng hẹp của
lưu lượng khí N2 từ 4  5,5 cm3/phút và nhiệt độ đế từ 135  260 0C
13


độ cứng của lớp phủ CrN có giá trị > 2300 HV.
2400

2400
2400

2200

2200
2200

2000

1800

1600

Độ cứng (HV)

2000

Độ cứng (HV)

Độ cứng (HV)

2000

1800
1600

50

4

7

B: Lưu Lượng khí nitơ (sccm)

130
8

4
150

250
90

70
90

6

1600

100

300
70

50
5

1800

110
A: Tần số xung (kHz)

A: Tần số xung (kHz)

150 C: Nhiệt độ đế (0C)

130
150

150

Hình 3.12. Mô hình hóa
dạng 3D ảnh hưởng của
lưu lượng khí N2 và tần
số xung độ cứng của lớp
phủ CrN

5
200

200

110

C: Nhiệt độ đế (0C)

6
250
300

100

Hình 3.13. Mô hình
hóa dạng 3D ảnh
hưởng của nhiệt độ đế
và tần số xung đến độ
cứng của lớp phủ CrN

7B: Lưu Lượng khí nitơ (sccm)
8

Hình 3.14. Mô hình
hóa dạng 3D ảnh
hưởng của nhiệt độ đế
và lưu lượng khí N2
đến độ cứng của lớp
phủ CrN

Đối với ứng suất:

Mô hình (3.16) tương hợp với thực tế. Mô hình hóa dạng 3D độ
cứng lớp phủ chịu ảnh hưởng bởi các thông số công nghệ chế tạo tần
số xung, lưu lượng khí N2, và nhiệt độ đế thể hiện trên hình 3.15, 3.16
và 3.17.
1

1

-3
-4
-5

50
4

70
5

90
6

B: Lưu Lượng khí nitơ (sccm)

7

130
8

110
A: Tần số xung (kHz)

150

Hình 3.15. Mô hình
hóa dạng 3D ảnh
hưởng của lưu lượng
khí N2 và tần số xung
đến ứng suất mặt
(200) của lớp phủ CrN

0

-1
-2
-3
-4
-5

50
70

100
90

150
200
130

250

C: Nhiệt độ đế (0C)

300

110
A: Tần số xung (kHz)

150

Hình 3.16. Mô hình hóa
dạng 3D ảnh hưởng của
nhiệt độ đế và tần số
xung đến ứng suất mặt
(200) của lớp phủ CrN

Ứng suất mặt tinh thể (200) (GPa)

-2

Ứng suất mặt tinh thể (200) (GPa)

Ứng suất mặt tinh thể (200) (GPa)

1

0

0
-1

-1
-2
-3
-4
-5
4
100

5
150

6
200

B: Lưu Lượng khí nitơ (sccm)
7

250

C: Nhiệt độ đế (0C)

300

8

Hình 3.17. Mô hình hóa
dạng 3D ảnh hưởng của
nhiệt độ đế và lưu lượng
khí N2 đến ứng suất mặt
(200) của lớp phủ CrN

Từ các mô hình 3D ảnh hưởng của các thông số công nghệ chế tạo
tần số xung, lưu lượng khí N2, và nhiệt độ đế đến ứng suất mặt (200)
lớp phủ CrN xác định được tác động rõ ràng nhất khi thay đổi tần số
xung và lưu lượng khí N2. Vùng thay đổi thông số công nghệ trong
khoảng hẹp của lưu lượng khí N2 từ 6,5  7,2 cm3/phút và tần số xung
từ 110  135 kHz, ứng suất mặt (200) của lớp phủ CrN là ứng suất nén
có giá trị > -4 GPa.
14


3.2.2. Tối ưu hóa quá trình chế tạo
Sử dụng phương pháp hàm kỳ vọng để tối ưu hóa độ cứng và ứng
suất mặt tinh thể lớp phủ CrN bằng phần mềm quy hoạch thực nghiệm
Design-Expert 11.0 được thể hiện trên các hình 3.18, 3.19 và 3.20.
Điểm tối ưu xác định mức độ phù hợp của các thông số công nghệ
ảnh hưởng tác động đến độ cứng và ứng suất mặt (200) của lớp phủ
CrN trong vùng giá trị hàm mục tiêu ổn định biến đổi theo quy luật.
Các thông số tối ưu quá trình chế tạo lớp phủ CrN được thống kê trong
bảng 3.5.

Hình 3.18. Điểm tối ưu độ cứng
a) và ứng suất mặt (200) b) của
lớp phủ CrN ảnh hưởng bởi lưu
lượng khí N2 và tần số xung

Hình 3.19. Điểm tối ưu độ cứng a)
và ứng suất mặt (200) b) của lớp
phủ CrN ảnh hưởng bởi nhiệt độ đế
và tần số xung

Hình 3.20. Điểm tối ưu độ cứng a) và ứng suất mặt (200) b) của lớp phủ
CrN ảnh hưởng bởi nhiệt độ đế và lưu lượng khí N2

Từ bảng 3.15 kết quả tối ưu thông số công nghệ chế tạo đối với
độ cứng và ứng suất mặt (200) của lớp phủ CrN là giống nhau. Tiến
hành thực nghiệm ba lần kiểm tra, so sánh kết quả theo mô hình và
thực nghiệm. Điều kiện tối ưu và cơ tính lớp phủ CrN được trình
bày trên bảng 3.16.

15


Bảng 3.15. Kết quả tối ưu công nghệ chế tạo lớp phủ CrN
Thông số
Cơ tính
Lưu lượng
Tần số
Nhiệt độ
Độ cứng
Ứng suất mặt
khí N2
xung (kHz)
đế (0C)
(HV)
(200) (GPa)
3
(cm /phút)
120,5
7,23

294,6
2008,9
-3,76
Bảng 3.16. Cơ tính lớp phủ CrN với đế thép SKD61 khi được phủ với bộ
thông số tối ưu
Số thứ tự thí nghiệm
Giá trị
Cơ tính
trung bình
1
2
3
Độ cứng (HV)
Ứng suất mặt tinh
thể (200) (GPa)

2023,43

2053,67

1978,25

2018,45

-3,72

-3,81

-3,85

-3,79

Kết quả thí nghiệm cho thấy mô hình hồi quy là phù hợp, lớp phủ
CrN trên nền thép SKD61 ổn định có độ cứng đạt được từ 1978,25 
2053,67 HV và ứng suất mặt tinh thể (200) từ -3,72  3,85 GPa với
các thông số công nghệ tối ưu là lưu lượng khí N2 7,23 cm3/phút, tần
số xung 120,5 kHz, nhiệt độ đế 294,6 0C.
3.2.3. Nghiên cứu ảnh hưởng các thông số công nghệ chế tạo

Hình 3.21. Ảnh hưởng của lưu lượng khí N2 và tần số xung đến độ cứng (a)
và ứng suất mặt (200) (b) của lớp phủ CrN trên nền thép SKD61

16


Hình 3.22. Ảnh hưởng của nhiệt độ đế và tần số xung đến độ cứng (a) và
ứng suất mặt (200)(b) của lớp phủ CrN trên nền thép SKD61

Hình 3.23. Ảnh hưởng của nhiệt độ đế và lưu lượng khí N2 đến độ cứng (a)
và ứng suất mặt (200) (b) của lớp phủ CrN trên nền thép SKD61

Trên hình 3.21a là đồ thị biểu diễn điểm tối ưu độ cứng lớp phủ
CrN có giá trị 2008,9 HV với điểm tối ưu nhiệt độ 294,6 0C, đường
nét liền (màu đen) thể hiện giá trị độ cứng với lưu lượng khí N2 = 4
cm3/phút, đường nét liền (màu đỏ) thể hiện giá trị độ cứng với lưu
lượng khí N2 = 8 cm3/phút khi tần số xung thay đổi từ 50  150 kHz.
Với một điểm (điểm “A” hình 3.21a) trong đồ thị xác định được giá
trị độ cứng 2110 HV và giá trị của tần số xung 96 kHz, giá trị lưu
lượng khí N2 = 4,5 cm3/phút. Thông qua giá trị độ cứng lựa chọn điểm
“A” đồ thị hình 3.21a xác định được giá trị ứng suất mặt (200) của lớp

17


phủ CrN là - 0,65 GPa (điểm “B” đồ thị hình 3.21b). Ngược lại, khi
lựa chọn một giá trị ứng suất mặt (200) của lớp phủ CrN hoàn toàn
xác định được giá trị độ cứng tương ứng. Với các đồ thị ảnh hưởng
thông số công nghệ hình 3.21, 3.22 và 3.23 lựa chọn được một giá trị
độ cứng (hoặc ứng suất mặt (200)) lớp phủ CrN từ đó tìm được ứng
suất mặt (200) (hoặc độ cứng), xác định được thông số công nghệ chế
tạo trong khoảng dự đoán
3.3. Khảo sát ảnh hưởng các thông số công nghệ chế tạo lớp phủ
TiN và CrN bằng phương pháp hồ quang chân không trên thiết bị
chân không Dreva Arc 400-VTD
3.3.1. Tính chất của lớp phủ TiN trên nền thép SKD61
Lớp phủ có hợp thức 1-1 (Ti1N1); chiều dày lớp phủ 1,52 m, lớp
phủ có hệ số ma sát trượt với nhôm nhỏ 0,44. Thiết bị chân không
Dreva Arc 400-VTD với bộ thông số công nghệ tối ưu hoàn toàn phù
hợp để chế tạo lớp phủ TiN trên nền thép SKD61.
3.3.2. Tính chất của lớp phủ CrN trên nền thép SKD61
- Lớp phủ có hợp thức gần Cr1N1 với lưu lượng khí N2 đưa vào
buồng là 350 cm3/phút; tốc độ hình thành lớp phủ 0,131 µm/phút; hệ
số ma sát trượt của lớp phủ đạt nhỏ nhất 0,415 với lưu lượng khí N2
đưa vào buồng là 350 cm3/phút. Bộ thông số công nghệ là phù hợp với
điều chỉnh thay đổi lưu lượng khí N2 đưa vào buồng đạt 350 cm3/phút.
Kết luận chương 3
1. Bằng phương pháp quy hoạch thực nghiệm đã xác định được
phương trình hồi quy thực nghiệm tạo lớp phủ cứng CrN bằng phương
pháp phún xạ xung một chiều magnetron.
Độ cứng lớp phủ:
= 294.932 − 5.0834 + 50.398

− 16.084 + 0,005

độ ứ

− 4.174

+ 0.260

+ 0.02

Ứng suất mặt (200) lớp phủ:
ứ

ấ

= 22,45 − 0,147 − 4,935 − 0,032
+ 0,398 + 0,000052

+ 0,0001

+ 0,0006

Từ phương trình thực nghiệm trên cho thấy thông số ảnh hưởng lớn
nhất là lưu lượng khí N2, thứ hai là tần số xung và nhiệt độ đế.
2. Bằng phương pháp hồ quang chân không đã tạo được lớp phủ
TiN trên chốt tạo lỗ trong khuôn với bộ thông số công nghệ tối ưu như
sau: Lưu lượng khí Ar = cm3/phút, lưu lượng khí N2 = 250 cm3/phút ,
điện áp nguồn hồ quang = 20 V, dòng điện nguồn hồ quang = 60 A,
thiên áp đế = -100 V, nhiệt độ đế = 150 0C.
18

Sử dụng bộ thông số chế tạo lớp phủ CrN trên chốt tạo lỗ với các
thông số: Lưu lượng khí Ar = cm3/phút, lưu lượng khí N2 = 350
cm3/phút , điện áp nguồn hồ quang = 20 V, dòng điện nguồn hồ quang
= 60 A, thiên áp đế = -100 V, nhiệt độ đế = 150 0C.
3. So sánh kết quả trên đồ thị 3D xây dựng bằng phần mềm Design
expert và kết quả thực tế thực nghiệm trên Bảng 3.12 cho thấy sai lệch
độ cứng và ứng suất mặt (200) của lớp phủ sai lệch khoảng 10%.
CHƯƠNG 4. ÁP DỤNG KẾT QUẢ CỦA LUẬN ÁN VÀO
THỰC TIỄN SẢN XUẤT VÀ ĐÁNH GIÁ CHẤT LƯỢNG
4.2. Điều kiện thực nghiệm
Đối tượng nghiên cứu: chi tiết chốt vòng ôm và chốt giá đỡ chế tạo
bằng thép SKD61.

a)

b)
Hình 4.2. Chốt tạo lỗ chi tiết vòng ôm
a) Kích thước chốt vòng ôm; b) Chốt vòng ôm sau chế tạo

a)

b)

Hình 4.3. Chốt tạo lỗ chi tiết giá đỡ
a) Kích thước chốt giá đỡ; b) Chốt giá đỡ sau chế tạo

Thiết bị, khuôn đúc áp lực hợp kim nhôm - kẽm
Máy đúc áp lực buồng lạnh ZDC - 250T sử dụng khuôn đúc áp lực

vòng ôm đúc hợp kim nhôm; Máy đúc áp lực buồng nóng ZDC -150
sử dụng khuôn đúc áp lực giá đỡ đúc hợp kim kẽm.
Chế tạo lớp phủ
- Lớp phủ CrN chế tạo bằng phương pháp phún xạ xung một chiều
19


magnetron: Lớp phủ có hợp thức Cr1N1, độ cứng lớp phủ  2000 HV,
lớp phủ có cấu trúc tinh thể định hướng theo mặt (200), ứng suất mặt
tinh thể (200)  3,79 GPa, chiều dày lớp phủ 4,2  7,1 m.
- Lớp phủ CrN và TiN chế tạo bằng phương pháp hồ quang chân
không: Lớp phủ CrN có hợp thức gần Cr1N1, chiều dày lớp phủ 1,31
µm, hệ số ma sát 0,415; Lớp phủ TiN có hợp thức T1N1, chiều dày lớp
phủ 1,52 µm, hệ số ma sát 0,441.
4.3. Thử nghiệm trong sản xuất
4.3.1. Thử nghiệm sản xuất chốt có phủ trên khuôn đúc áp lực
vòng ôm
Mòn trên chốt không phủ

Hình 4.15. Dòng kim loại tác động lên chốt trong quá trình làm việc
a) Dòng kim loại vào khuôn; b) Tiết diện dòng chảy bị thu hẹp
c) Vị trí mòn trên chốt không phủ; d) Vị trí mòn trên chốt có phủ

Bề mặt khuôn đúc bị mòn trong quá trình làm việc nguyên nhân là
do sự hoà tan và mất vật liệu khuôn vào kim loại lỏng. Quá trình hàn
dính kim loại đúc trên bề mặt khuôn không phủ theo cơ chế hoá lý.
Trong quá trình làm việc nhôm bám dính trên bề mặt chốt, các lớp
mỏng hình thành liên kim với vật liệu nền. Lớp dính bám ảnh hưởng
xấu đến độ bóng bề mặt vật đúc hoặc gây xước bề mặt.
Mòn trên chốt phủ TiN

Cơ chế phá huỷ lớp phủ trên bề mặt khuôn là do quá trình hình
thành, phát triển và tạo các điểm vỡ cục bộ trên bề mặt lớp phủ. Các
20


nguyên nhân ảnh hưởng như quá trình tạo lớp phủ, tác động cơ học,
hoá học của kim loại lỏng, chu kỳ nhiệt của khuôn trong quá trình đúc
chi tiết.
Bảng 4.3. Các chốt được phủ và không được phủ qua thử nghiệm trong
khuôn đúc áp lực sản phẩm nhôm ADC6
Loại chốt

Phương
pháp phủ

Loại chốt
thử nghiệm

Vật liệu
đúc

Phủ CrN

Magnetron

Mẫu thử
loại 1

Hồ quang
chân không

Hồ quang
chân không

Mẫu thử
loại 3

Nhôm
ADC6
Nhôm
ADC6

Mẫu thử
loại 4

Nhôm
ADC6

Số sản phẩm
(chi tiết)
58.000 
60.000
40.000 
45.000
45.000 
50.000

Đối chứng 2

Nhôm
ADC6

20.000 
25.000

Phủ TiN
Phủ CrN
Xử lý bề mặt bằng
phương pháp
truyền thống

Mòn trên chốt phủ CrN

Hình 4.18. Bề mặt chốt có phủ CrN bằng phương pháp phún xạ xung một
chiều magnetron ở các góc tác động của dòng nhôm lỏng

Hình 4.19. Bề mặt chốt có phủ CrN bằng phương pháp hồ quang chân
không ở các góc tác động của dòng nhôm lỏng

Bề mặt lớp phủ CrN bằng phương pháp hồ quang chân không có
các hạt và hố macro, đây là các vị trí yếu ảnh hưởng đến khả năng làm
việc của lớp phủ. Các hạt macro bong ra khỏi bề mặt lớp phủ và để lại
21


các hố macro làm giảm sự đồng đều của bề mặt. Trong quá trình đúc,
nhôm lỏng thâm nhập vào các hố macro, tạo ra các “chân” cắm trên
bề mặt lớp phủ. Các chân gây xước bề mặt lớp phủ hoặc tạo liên kết
với nhôm lỏng dính bám lên bề mặt làm giảm khả năng làm việc của
lớp phủ.
4.3.2. Thử nghiệm sản xuất chốt có phủ trên khuôn đúc áp lực chi

tiết giá đỡ
Bảng 4.5. Số lượng sản phẩm đạt yêu cầu kỹ thuật trong quá trình thử
nghiệm chốt có phủ và không phủ trên khuôn giá đỡ
Phương
Loại chốt
Vật liệu
Số sản phẩm
Loại chốt
pháp phủ
thử nghiệm
đúc
(chiếc)
Hồ quang
Kẽm
48.000 
Mẫu thử
Phủ TiN
loại 5
chân không
ZDC2
50.000
Xử lý bề mặt
bằng phương
33.000 
Đối chứng
Kẽm
2
ZDC2
pháp truyền
35.000

thống

Mòn trên chốt phủ TiN

Hình 4.28. Hỏng trên chốt giá đỡ phủ TiN

Cơ chế phá huỷ lớp phủ TiN trên bề mặt khuôn là do quá trình hình
thành, phát triển và tạo các điểm vỡ cục bộ trên bề mặt lớp phủ.
4.3.3. Đánh giá hiệu quả làm việc của các lớp phủ

22


Bảng 4.7. Hiệu quả kinh tế - kỹ thuật của các loại lớp phủ ứng dụng cho
khuôn đúc áp lực
Tổng
Số lượng chi
Loại
Vật
Số lượng
Phương
thời gian
tiết gá trong
lớp
liệu
chi tiết đúc
pháp chế tạo
chế tạo
buồng chân
phủ

đúc
đạt được
(phút)
không
Nhôm
58.000 
Magnetron
CrN
260
1
ADC6
60.000
Hồ
quang
45.000 
Nhôm
CrN
95
48
ADC6
chân không
50.000
Hồ
quang
Nhôm
40.000 
TiN
95
48
chân không

ADC6
45.000
Kẽm
48.000 
Hồ
quang
TiN
95
48
chân không
ZDC2
50.000

Chi tiết chốt khuôn SKD61 phủ CrN bằng phương pháp phún xạ
xung một chiều magnetron đạt số lượng chi tiết đúc  58.000  60.000,
chất lượng lớp phủ tốt. Về mặt kỹ thuật, là phương án công nghệ tốt
hơn, sử dụng lớp phủ CrN để nâng cao tuổi thọ khuôn đúc áp lực
nhôm. Tuy nhiên, thời gian chế tạo lớp phủ dài, đồ gá chi tiết chưa phù
hợp cho sản xuất thử và sản xuất cho nhà máy. Chi tiết chốt khuôn
SKD61 phủ CrN và TiN bằng phương pháp hồ quang chân không có
số lượng chi tiết đúc đạt tương ứng là 45.000  50.000 và 40.000 
45.000. Thời gian chế tạo ngắn, đồ gá chi tiết cần phủ phù hợp với sản
xuất thử, tăng hiệu quả kinh tế và đáp ứng kịp thời yêu cầu sản xuất.
Kết luận chương 4
1. Đã áp dụng bộ thông số tối ưu của công nghệ phún xạ và hồ
quang chân không phủ lên các chốt tạo lỗ trong khuôn đúc và được
đưa vào ứng dụng trong thực tiễn sản xuất.
2. Sau 40.000 lần đúc và tạo sản phẩm cho thấy tình trạng kỹ thuật
của chốt không có hiện tượng bong tróc và mòn của lớp phủ CrN và
TiN

3. Từ ứng dụng kết quả luận án vào thực tiễn sản xuất đã mở ra khả
năng áp dụng công nghệ tạo lớp phủ cứng trên bề mặt chi tiết trong
khuôn đúc áp lực.
KẾT LUẬN VÀ HƯỚNG NGHIÊN CỨU TIẾP THEO
KẾT LUẬN
1. Nghiên cứu các yếu tố gây ra hỏng khuôn đúc áp lực và các giải
23


pháp khắc phục trong đó chọn giải pháp phủ PVD. Tìm hiểu cơ
chế hoạt động của khuôn đúc áp lực bao gồm cả các chốt tạo lỗ
trong khuôn.
2. Xây dựng được quy trình công nghệ tạo lớp phủ trên bề mặt chốt
tạo lỗ trong khuôn từ vật liệu SKD61 bằng phương pháp phún
xạ và hồ quang chân không.
3. Sử dụng thực nghiệm Box-Willson xây dựng được phương trình
hồi quy thực nghiệm tạo lớp phủ cứng CrN bằng phương pháp
phún xạ xung một chiều magnetron.
Độ cứng lớp phủ:
= 294.932 − 5.0834
+ 0.260

độ ứ

+ 50.398 − 4.174
+ 0.02 − 16.084 + 0,005

Ứng suất mặt (200) lớp phủ:
ứ

ấ

= 22,45 − 0,147 − 4,935 − 0,032 + 0,0001
+ 0,0006 + 0,398 + 0,000052

Xây dựng được bộ thông số công nghệ chế tạo lớp phủ bằng
phương pháp hồ quang chân không.
4. Áp dụng kết quả tính toán bộ thông số tối ưu của công nghệ PVD
chế tạo lớp phủ cho chốt tạo lỗ trong khuôn. Sau 40.000 lần đúc
đã kiểm tra tình trạng của kỹ thuật của chốt không có hiện tượng
hư hỏng, chứng minh cho độ tin cậy của bộ thông số đã xây dựng
được.
HƯỚNG NGHIÊN CỨU TIẾP THEO
1. Nghiên cứu chế tạo và lắp đặt cụm catot rỗng nâng cao chất
lượng làm sạch và gia nhiệt cho chi tiết phủ cho thiết bị chế tạo
tại Việt Nam.
2. Tính toán thiết kế thiết bị toàn bộ ứng dụng các phương pháp
phủ Phún xạ một chiều magnetron và Hồ quang chân không đảm
bảo đạt các thông số công nghệ chế tạo lớp phủ.
3. Nghiên cứu lớp phủ đa lớp và lớp phủ chuyển tiếp ứng suất để
giảm hỏng bề mặt khuôn do nứt nhiệt.

24